[实用新型]球体精加工设备

说明书

球体精加工设备，包括工作台，设置在工作台侧面的控制面板，工作台上设有抛光槽，抛光槽内设有下磨盘，下磨盘上偏心放置有圆形板件保持架；圆形板件保持架上设有一组呈同心圆均匀分布的圆柱形通孔，圆柱形通孔的直径比圆形板件保持架的厚度大；对应的，下磨盘的上方偏心设有加压装置；加压装置包括设于工作台上的加压机架，加压机架上设有气缸，气缸的活塞杆和加长杆固定联接，加长杆另一端通过推力轴承与上磨盘联接；上磨盘外套设有下表面上均匀分布着放射状矩形槽的修整环，矩形槽的高度小于圆形板件保持架的厚度。本实用新型的球体精加工设备能够实现加工轨迹的全包络，机械结构简单，研抛质量好且批一致性好。

技术领域

本实用新型涉及超精密加工设备，特别是一种加工球体精加工设备。

背景技术

随着现代机械高精尖技术的迅速发展，对机械制造业提出了越来越高的要求，特别是细小零、部件的精加工。当前，超精密加工已经成为加工领域研究的重点和热点。

目前，针对球体工件,端面式抛光装置是市场上最常见的一类精加工装置，但是大多数该装置的工件运行轨迹比较单一。端面抛光装置有偏心式和同心式。同心旋转时，速度可以提高，但是抛光工具中心的材料去除率为零，容易形成同心环纹理；偏心旋转时，可以产生公转和自转两种运动，但是公转会影响自转产生的运动轨迹，同时由于离心力的限制，抛光工具的转速不能太高，限制了抛光时材料去除率。加工时，材料去除不均匀，运行轨迹单一，导致球体工件表面光洁度不高，批一致性差。

实用新型内容

本实用新型设备的目的在于，提供了一种球体精加工设备。本实用新型的球体精加工设备机械结构简单，加工效率高，加工出的球体工件表面光洁度高，批一致性好。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了如下技术方案：球体精加工设备，其特征在于：包括工作台，工作台侧面设有控制面板，工作台上设有抛光槽，抛光槽内设有下磨盘，下磨盘和设置在工作台下方的电机连接；所述下磨盘上偏心放置有圆形板件保持架；所述圆形板件保持架上设有一组呈同心圆均匀分布的圆柱形通孔，圆柱形通孔的直径比圆形板件保持架的厚度大；对应的，所述下磨盘的上方偏心设有加压装置；所述加压装置包括设于工作台上的加压机架，加压机架上设有气缸，气缸的活塞杆的下端和加长杆的上端固定联接，加长杆的下端通过推力轴承与上磨盘联接；所述上磨盘外套设有下表面上均匀分布着放射状矩形槽的修整环，所述矩形槽的高度小于所述圆形板件保持架的厚度。

与现有技术相比，本实用新型的设备在抛光时，由于修整环对圆形板件保持架限制作用，在提高下磨盘的转速，离心力变大的情况下，圆形保持架依然可以做定轴自转，不仅提高了抛光时材料去除率又保证公转不打乱自转的轨迹；球体在下磨盘、圆形板件保持架和上磨盘的协同作用下，具有特定的运动轨迹，能够实现加工轨迹的全包络，从而实现材料的均匀去除，获得的产品表面光洁度高且批一致性好。

作为优化，所述电机的工作轴上设有电机减震器。减缓器在工作时竖直方向上产生的震动，提高加工精度。

作为优化，所述圆形板件保持架的下侧表面上呈环状120度间距粘附有3个圆形垫片。研究表明，圆形垫片不仅可以减少所述圆形板件保持架的磨损，还有助于抛光液的良好流通，从而提高抛光效率。

作为优化，所述圆形板件保持架的材料为聚甲基丙烯酸甲酯。聚甲基丙烯酸甲酯的硬度较小，用于加工比其硬度大的球体时，球体不易因挤压导致变形。

作为优化，所述抛光槽的底部设有排液口。用于将废旧的抛光液排出，方便抛光槽的清洁工作。

附图说明

图1是本实用新型的球体精加工设备的结构示意图；

图2是本实用新型的圆形板件保持架的平面示意图；

图3是本实用新型的修整环立体示意图。