[实用新型]有机硅废料燃烧处理装置有效
申请号: | 201821214233.1 | 申请日: | 2018-07-30 |
公开(公告)号: | CN209130886U | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
发明(设计)人: | 蒋尊标;姜丁允;胡付俭;田国才;黄雷波;许松松;吕岩;刘长兴;陈松;冯刚 | 申请(专利权)人: | 江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司 |
主分类号: | F23G7/00 | 分类号: | F23G7/00;F23G5/12;F23G5/44;F23J15/02 |
代理公司: | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人: | 刘彦 |
地址: | 215200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 粉尘 本实用新型 处理装置 废料燃烧 整流机构 有机硅 进风 燃烧室 硅铝合金 硅铁合金 胶凝材料 纳米级别 排风系统 沉降室 硅金属 混泥土 燃烧器 溶剂 抽排 风管 粒径 排出 建筑材料 添加剂 重复 | ||
本实用新型提供一种有机硅废料燃烧处理装置,其包括:燃烧室、一级进风整流机构、二级进风整流机构、燃烧器、抽排风管、沉降室。本实用新型能够控制SiO2粉尘的粒径接近纳米级别,使产生的SiO2粉尘有利于通过排风系统排出进行收集,收集的SiO2粉尘可进一步重复使用于混泥土、胶凝材料等建筑材料,及硅金属、硅铁合金和硅铝合金等的原料或添加剂、溶剂。
技术领域
本发明涉及使用有机硅制造光纤预制棒领域,尤其涉及一种光纤预制棒制造过程中有机硅废料的处理方法。
背景技术
光纤预制棒制备过程中,常常使用VAD法、MCVD法、PCVD法等制备芯棒,采用OVD法、RIC法等制备外包层,在众多外包层制备方法中,OVD法可确保较高的沉积速率,能够制备大型光纤预制棒,并具有效率高、灵活性强、经济效益高等优点。
传统的OVD法采用四氯化硅(SiCl4)原料,但反应过程中会伴随氯化氢(HCl)腐蚀性气体,对环境污染较大,其中基于OVD法采用有机硅为原料制备光纤预制棒,成本较低,且反应产物无毒无腐蚀,是一种理想的“绿色制造”原材料,满足未来“绿色制造”的理念,但生产或维护过程中会产生一部分有机硅废料。
有机硅氧烷是一种有机硅化合物,因其具有高蒸汽压、低水溶性、表面活性和润滑性等特定属性,而广泛存在于化工、工业、交通和日常生活应用等各个领域同时产生大量有机硅废弃料。有机硅废弃料可能具有持久性、生物累积性,甲基硅氧烷的环境残留问题已经成为研究热点,目前主要通过垃圾填埋、有机废料厌氧消化和污水处理产生消化气,但消化气中硅氧烷含量越来越高。传统燃烧消化气发电或焚烧处理时,硅氧烷会与氧气燃烧生产细小的二氧化硅粉尘会在内燃机内壁或燃气轮机的叶轮及排风管道内壁表面堆积形成二氧化硅层。
此外,有机硅可能具有持久性、生物累积性等性质,限制了有机硅填埋等直接处理方式,而有机硅燃烧后会产生细小的二氧化硅粉尘,会缩短内燃机或燃气轮机的叶轮的寿命。同时二氧化硅粉尘污染环境,需考虑有机硅燃烧后二氧化硅粉尘的排泄及收集问题。
实用新型内容
本实用新型旨在提供一种有机硅废料燃烧处理装置,以克服现有技术中存在的不足。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:
一种有机硅废料燃烧处理装置,其包括:燃烧室、一级进风整流机构、二级进风整流机构、燃烧器、抽排风管、沉降室;
所述一级进风整流机构和二级进风整流机构依次设置于所述燃烧室的进风侧,所述一级进风整流机构包括:一级整流板以及开设于所述一级整流板上的若干第一孔洞,所述二级进风整流机构包括:二级整流板以及开设于所述二级整流板上的若干第二孔洞;所述燃烧器贯穿于所述二级整流板上,且朝向所述燃烧室设置,所述燃烧器包括:原料与载气喷射孔、燃料与氧化剂喷射孔以及富氧化剂喷射孔;所述抽排风管位于所述燃烧室的排风侧,所述抽排风管与所述燃烧器相对设置,且所述抽排风管与所述沉降室相连通。
作为本实用新型的有机硅废料燃烧处理装置的改进,所述燃烧室为具有隔热夹层的燃烧室,所述隔热夹层中注入有循环冷却水。
作为本实用新型的有机硅废料燃烧处理装置的改进,所述一级整流板和二级整流板具有一弧度,所述弧度的范围为:[0°,180°]。
作为本实用新型的有机硅废料燃烧处理装置的改进,所述一级整流板和二级整流板为耐高温钢板。
作为本实用新型的有机硅废料燃烧处理装置的改进,所述第一孔洞的孔径大于所述第二孔洞的孔径。
作为本实用新型的有机硅废料燃烧处理装置的改进,所述燃烧器为多个,多个燃烧器以阵列形式排布于所述二级整流板上。
作为本实用新型的有机硅废料燃烧处理装置的改进,所述原料与载气喷射孔中设置有雾化套管。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司,未经江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821214233.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:翅片烟管式强制水循环急冷装置
- 下一篇:一种含硅废液/废气处理系统