[实用新型]一种新型高分子下料机构有效
| 申请号： | 201821091570.6 | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN208648213U | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 林秉正 | 申请（专利权）人： | 泉州市汉威机械制造有限公司 |
| 主分类号： | B65G65/48 | 分类号： | B65G65/48 |
| 代理公司： | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 | 代理人： | 方惠春 |
| 地址： | 362000 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 调整板 下料机构 下料辊 新型高分子 下料通道 出料口 凹坑 本实用新型 高分子材料 紧条形 螺栓锁 条形孔 下料孔 复数 卡置 锁紧 下端 下料 连通 泄露 覆盖 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型高分子下料机构，其特征在于：包括机架、设于机架上的基座、设于基座上用于高分子下料的箱体、设于基座下端的两个调整板、设于机架上位于调整板下端的下料辊，所述箱体下端设有出料口，所述基座上设有连通出料口的下料孔，两调整板相互靠近的部位形成下料通道，各调整板上设有条形孔，各调整板通过螺栓锁紧条形孔的方式锁紧于基座上，所述下料辊上均匀分布地设有复数个用于卡置高分子材料的凹坑，所述下料通道覆盖凹坑数量小于五个且大于一个。
2.根据权利要求1所述的一种新型高分子下料机构，其特征在于：所述箱体内靠近出料口的部位上设有用于限制高分子出料速度的两个导引辊，两导引辊通过伺服电机传动，两导引辊上均匀分布地设有复数个承载凹槽。
3.根据权利要求2所述的一种新型高分子下料机构，其特征在于：两导引辊转动方向相反。
4.根据权利要求2所述的一种新型高分子下料机构，其特征在于：各承载凹槽为弧形凹槽。
5.根据权利要求1或2或3或4所述的一种新型高分子下料机构，其特征在于：各调整板相互靠近的一端分别设有引导高分子下落的倾斜面。
6.根据权利要求1或2或3或4所述的一种新型高分子下料机构，其特征在于：各凹坑为弧形凹坑。
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