[实用新型]半导体晶元超音波清洗设备

说明书

本实用新型涉及半导体晶元超音波清洗设备，包括机架，所述机架内设置有超声波清洗单元，所述超声波清洗单元由超声波清洗槽、超声波发生器及超声波振板构成，所述超声波清洗槽设置在机架的右侧，所述超声波发生器设置在机架的左侧，所述超声波振板设置在超声波清洗槽的下端，并与超声波发生器配合于超声波清洗槽设置，所述机架内设置有手动冲洗台，所述手动冲洗台位于超声波发生器的上方设置有，所述机架上设置有电气控制箱，所述超声波清洗槽上设置有进水阀和排水阀，与电气控制箱相电连，所述手动冲洗台的侧边上设置有水枪装置和气枪装置，与手动冲洗台内产品相配合设置。本实用新型能同时对多个产品进行清洗，提高生产的效率。

技术领域

本实用新型涉及一种清洗设备，尤其涉及一种半导体晶元超音波清洗设备。

背景技术

目前国内针对半导体晶元的清洗设备，通常采用进口的方式，因进口设备价格高昂，交期长，无法满足国内快速反应的生产节奏，设备功能单一，不能适应一系列产品的不同工艺要求。

有鉴于上述的缺陷，本设计人，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的半导体晶元超音波清洗设备，使其更具有产业上的利用价值。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型的目的是提供一种半导体晶元超音波清洗设备。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

半导体晶元超音波清洗设备，包括机架，所述机架内设置有超声波清洗单元，所述超声波清洗单元由超声波清洗槽、超声波发生器及超声波振板构成，所述超声波清洗槽设置在机架的右侧，所述超声波发生器设置在机架的左侧，所述超声波振板设置在超声波清洗槽的下端，并与超声波发生器配合于超声波清洗槽设置，所述机架内设置有手动冲洗台，所述手动冲洗台位于超声波发生器的上方设置有，所述机架上设置有电气控制箱，所述超声波清洗槽上设置有进水阀和排水阀，与电气控制箱相电连，所述手动冲洗台的侧边上设置有水枪装置和气枪装置，与手动冲洗台内产品相配合设置。

进一步的，所述的半导体晶元超音波清洗设备，其中，所述超声波清洗槽设有四台，呈田字形结构设置。

再进一步的所述的半导体晶元超音波清洗设备，其中，所述超声波清洗槽内设置有液位传感器，至少设有3个，分别呈高中低三个位置位置在超声波清洗槽内，并与电气控制箱相连。

更进一步的所述的半导体晶元超音波清洗设备，其中，所述电气控制箱与触摸屏及操作按键相连。

再更进一步的所述的半导体晶元超音波清洗设备，其中，所述机架的工作面上设置有提升门。

再更进一步的所述的半导体晶元超音波清洗设备，其中，所述机架的侧边上设置有观察窗。

再更进一步的所述的半导体晶元超音波清洗设备，其中，所述超声波清洗槽上还设置有溢流口。

再更进一步的所述的半导体晶元超音波清洗设备，其中，所述机架内设置有防漏盘，位于超声波清洗槽和超声波发生器的底端设置。

借由上述方案，本实用新型至少具有以下优点：

本实用新型通过超声波清洗单元与手动冲洗台能实现对多个产品进行清洗，有效的提高了该装置的工作效率，同时该装置内的超声波清洗槽可以多种产品的清洗，从而实现一机多品种的清洗，达到降低成本的目的。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明