[实用新型]一种高硬度耐磨的玻璃盖板

说明书

本实用新型公开了一种高硬度耐磨的玻璃盖板，包括玻璃基板，所述玻璃基板的表面设有增透膜，所述增透膜远离所述玻璃基板一侧设有高硬度层，其中所述高硬度层包括掺氢非晶碳膜层。本实用新型的玻璃基板上依次设有增透膜和高硬度层，高硬度层包括掺氢非晶碳膜层，两者配合，大大提高了玻璃盖板的硬度和耐磨性。

技术领域

本实用新型涉及电子配件技术领域，尤其涉及一种高硬度耐磨的玻璃盖板。

背景技术

随着人们生活水平的不断提高，手机、平板电脑、摄像头、笔记本电脑等电子产品已经逐渐普及。盖板既是保护电子产品最直接的方式，也是影响其散热效果、重量、美观度的重要因素。现阶段电子产品的玻璃盖板，通常是在玻璃基板上镀制非晶碳膜层来增强硬度和耐磨性，但是钢珠划刻测试的次数很低，玻璃盖板的硬度和耐磨性仍难以满足要求。

实用新型内容

为了解决上述现有技术的不足，本实用新型提供一种高硬度耐磨的玻璃盖板。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种高硬度耐磨的玻璃盖板，包括玻璃基板，所述玻璃基板的表面设有增透膜，所述增透膜远离所述玻璃基板一侧设有高硬度层，其中所述高硬度层包括掺氢非晶碳膜层。

进一步地，所述增透膜包括交叉层叠的多层二氧化硅层和多层氮化硅层。

进一步地，所述增透膜包括七层膜，沿远离所述玻璃基板的方向依次为第一二氧化硅层、第一氮化硅层、第二二氧化硅层、第二氮化硅层、第三二氧化硅层、第三氮化硅层、第四二氧化硅层。

进一步地，所述第一二氧化硅层、第二二氧化硅层、第三二氧化硅层、第四二氧化硅层的厚度均为5-58nm。

进一步地，所述第一氮化硅层、第二氮化硅层、第三氮化硅层的厚度均为5-69nm。

进一步地，所述掺氢非晶碳膜层的厚度为3-5nm。

进一步地，所述高硬度层还包括氧化硅层，所述氧化硅层设于所述掺氢非晶碳膜层和增透膜之间。

本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型的玻璃基板上依次设有增透膜和高硬度层，高硬度层包括掺氢非晶碳膜层，两者配合，大大提高了玻璃盖板的硬度和耐磨性。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图中：1、玻璃基板，2、增透膜，3、高硬度层，4、第一二氧化硅层，5、第一氮化硅层，6、第二二氧化硅层，7、第二氮化硅层，8、第三二氧化硅层，9、第三氮化硅层，10、第四二氧化硅层，11、氧化硅层，12、掺氢非晶碳膜层。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。

一种高硬度耐磨的玻璃盖板，包括玻璃基板、增透膜及高硬度层。

玻璃可以是钠钙玻璃、硅铝玻璃和硼硅玻璃等等。

所述增透膜设于所述玻璃基板的表面，所述高硬度层设于所述增透膜远离所述玻璃基板一侧，其中所述高硬度层包括掺氢非晶碳膜层。

所述增透膜包括交叉层叠的多层二氧化硅层和多层氮化硅层。所述增透膜不仅具有高透过率，并且具有良好的防刮耐磨性能。

本实用新型不限定二氧化硅层的层数与氮化硅层的层数，二氧化硅层的层数可以与氮化硅层的层数相同，二氧化硅层的层数也可以与氮化硅层的层数不相同，只要形成交叉层叠的结构即可，优选地，所述二氧化硅层的层数与所述氮化硅层的层数不相同。