[实用新型]溢流装置和显影系统

说明书

本实用新型提供了一种溢流装置，包括第一容器、第二容器、进液管道和排液管道，第一容器设于第二容器内，进液管道与第一容器联通，排液管道与第二容器联通，第一容器顶部设溢流口，液体通过进液管道进入第一容器，第一容器内的液体使用后在液面上形成脏污物，脏污物经溢流口流入第二容器，并经排液管道排走。通过设置位于第二容器内的第一容器，并在第一容器顶部设溢流口，进液管道输送的液体以及使用后回流的液体在第一容器内达到溢流口的高度，漂浮在液体表面的脏污物经溢流口流入第二容器，达到排污的作用，解决了液体重新抽取时含有脏污物而在线路表面残留的问题。本实用新型还提供了一种显影系统。

技术领域

本实用新型属于显影技术领域，尤其涉及一种溢流装置和显影系统。

背景技术

显影机理是将干膜中未曝光的部分的活性基团与稀碱溶液反应生成可溶解物质而溶解下来，干膜是一种高分子的化合物，它通过紫外线的照射后能够产和一种聚合反应形成一种稳定的物质附着于板面，从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能，干膜的主要成分包括粘结剂、单体、光引发剂、染料、增塑剂、增粘剂等，而其中大部分的成分都是疏水性质的，一旦从显影液中析出，就很容易凝结而形成脏污物，而这些脏污物极易漂浮在显影液表面，部分会随着机台的溢流口被排走，还有部分会伴随着显影液重新被抽取用于显影，脏污物在显影过程中容易残留在线路表面，阻挡蚀刻，容易在线路与线路之间留下导通的底铜，造成短路不良，有的底铜很少，电子测试无法测出，存在最终产品的可靠性风险，极易造成客户投诉。

实用新型内容

本实用新型的第一目的是提供一种溢流装置，以解决现有技术存在的脏污物被重新抽取而在线路表面残留的问题。

为实现本实用新型的第一目的，本实用新型提供了如下的技术方案：

第一方面，本实用新型提供了一种溢流装置，包括第一容器、第二容器、进液管道和排液管道，所述第一容器设于所述第二容器内，所述进液管道与所述第一容器联通，所述排液管道与所述第二容器联通，所述第一容器顶部设溢流口，液体通过所述进液管道进入所述第一容器，所述第一容器内的液体使用后在液面上形成脏污物，所述脏污物经所述溢流口流入所述第二容器，并经所述排液管道排走。

通过设置位于第二容器内的第一容器，并在第一容器顶部设溢流口，进液管道输送的液体以及使用后回流的液体在第一容器内达到溢流口的高度，漂浮在液体表面的脏污物经溢流口流入第二容器，并经排液管道排走，达到排污的作用，解决了液体重新抽取时含有脏污物而在线路表面残留的问题。

其中，所述第一容器与所述第二容器共用底板，所述进液管道设于所述底板上，且伸入所述第一容器内。第一容器和第二容器形成一体式，结构更为紧凑，进液管道伸入第一容器内，进液时可以在第一容器内扰动更上层的液体，更利于脏污物的析出和向液面位置移动。

其中，所述第一容器包括四周的第一侧板，所述第二容器包括四周的第二侧板，所述第一侧板和所述第二侧板不重叠，所述第一侧板和所述底板围合形成第一容腔，所述第一侧板、所述第二侧板和所述底板共同围合形成第二容腔，所述排液管道设于所述第二侧板上。第一容器四周为第二容器包围，且形成第二容腔，使得第二容腔的容积更大，并且可以不限制第一容器上设置溢流口的位置，即溢流口可任意设置在第一容器的第一侧板的任意位置，脏污物均可流到第二容腔内。

其中，所述第一侧板相对所述底板的高度高于所述第二侧板的高度，所述溢流口设于比所述第二侧板更高的位置。溢流口更高，防止第二容腔内的脏污物通过溢流口回流入第一容腔内。

其中，所述溢流口为所述第一侧板上开设的通孔，所述通孔为圆形或条形。

其中，所述溢流口包括多个，多个所述溢流口沿所述第一容器四周设置。多个溢流口布置在第一容器的四周，可以加快脏污物的溢流速度。