[实用新型]一种用于镀膜的可移动靶座结构

说明书

本实用新型属于镀膜设备的技术领域，具体涉及一种用于镀膜的可移动靶座结构，包括镀膜腔室(3)、靶座(4)、驱动装置(1)和移动装置(2)，所述靶座(4)设置于所述驱动装置(1)的输出端，所述驱动装置(1)通过所述移动装置(2)与所述镀膜腔室(3)连接。通过靶座运动的时间和距离控制镀膜的厚度，缩短了连续镀膜机的腔室长度，使连续镀膜设备维修保养的成本下降，同时降低工厂的能耗，并且更加节能和环保。实用新型针对产品在镀膜腔室内做直线往返运动的缺点，采用靶座做直线往返运动，有效缩短连续镀膜机的腔室长度，减少连续镀膜设备的成本，还使整个工厂的使用面积更加有效利用，提高了生产镀膜产品的效率。

技术领域

本实用新型属于镀膜设备的技术领域，具体涉及一种用于镀膜的可移动靶座结构。

背景技术

真空卷绕镀膜设备主要有以下特点：其一、被镀基材为柔性基材，即具有可卷绕性；其二、镀膜过程具有连续性，即在一个工作周期内镀膜是连续进行的；其三、镀膜过程在高真空环境中进行。连续镀膜设备是将被镀膜物件（单件或多件）连续地从大气压经过压力梯段进入到一个或数个镀膜室，再经过相应的压力梯段。市场上的连续镀膜机，可以分为放射型的和直线型，放射型的为中间一个大腔室，周围分布着小腔室，产品装载好后送进大腔，抽真空，加热，然后通过机械装置送入相应的腔式中镀膜，完成后从卸品腔中取出，这种方式镀膜一般难以控制镀膜层的均匀性，而且对场地的要求比较高。

此外，在中国专利文件中公开了一种靶座结构(公开号CN 101871091 A)，其包括底座、靶材、镀膜层、靶座支架及基座支架。镀膜层包括第一靶座、第二靶座及基座。第一靶座、第二靶座及基座均为同心的环形体。第一靶座和第二靶座由靶座支架支撑在底座上且在同一平面内围成一连续闭合的环形镀膜区域，基座由基座支架支撑在底座上并位于环形镀膜区域内。上述的方案确保镀膜区域具有均匀的靶材原子浓度，提高所镀膜层的均匀性。但是这种方案至少还存在以下缺陷，扩大了镀膜的空间，导致连续镀膜机整机长度很大，过大的长度给设备增加过多的成本，使得工厂的占地面积增大，不利于提高效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：针对现有技术的不足，提供一种用于镀膜的可移动靶座结构，以能够减少连续镀膜机的整机长度。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种用于镀膜的可移动靶座结构，包括镀膜腔室、靶座、驱动装置和移动装置，所述靶座设置于所述驱动装置的输出端，所述驱动装置通过所述移动装置与所述镀膜腔室连接。增加驱动装置驱动靶座，使靶座在新的维度上自由运动，避免了产品镀膜时受限于工厂的面积。

作为本实用新型所述的一种用于镀膜的可移动靶座结构的一种改进，所述移动装置包括凹轮、凸带和第一电机，所述凹轮设置于所述驱动装置的底部，所述凸带布置在所述镀膜腔室的底部，且所述凸带连接于所述第一电机的输出端，所述凹轮与所述凸带配合连接。增加凸带，使凹轮在驱动装置压力下更加紧密靠近凸带，避免凹轮偏离凸带，导致连续镀膜终止。

作为本实用新型所述的一种用于镀膜的可移动靶座结构的一种改进，所述移动装置包括齿轮、链条和第二电机，所述齿轮设置于所述驱动装置的底部，所述链条布置在所述镀膜腔室的底部，且所述链条连接于所述第二电机的输出端，所述齿轮与所述链条配合连接。齿轮通过啮合链条增加摩擦力，使驱动装置更加平稳的固定在链条上，防止驱动装置掉落，致使连续镀膜终止。

作为本实用新型所述的一种用于镀膜的可移动靶座结构的一种改进，所述移动装置包括凸轮、凹带和第三电机，所述凸轮设置于所述驱动装置的底部，所述凹带布置在所述镀膜腔室的底部，且所述凹带连接于所述第三电机的输出端，所述凸轮与所述凹带配合连接。增加凹带，减少凸轮运动时的晃动，防止凸轮偏离。