[实用新型]一种涂布机涂布盒有效

专利信息
申请号: 201820458601.0 申请日: 2018-03-31
公开(公告)号: CN208261168U 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 韦豪任;韦建平;邓超伦 申请(专利权)人: 深圳市森荣地科技有限公司
主分类号: B05C11/10 分类号: B05C11/10;B05C11/11
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518101 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 右档板 出料孔 进料孔 涂料 本实用新型 涂布机涂布 倒梯形板 方形板 刮板 电子元器件制造 一体式结构 回料系统 圆柱滚轮 厚薄 磁吸器 发泡层 弧形边 胶粘层 涂布盒 涂布机 小气泡 下端 沉淀
【说明书】:

本实用新型涉及电子元器件制造技术领域的一种涂布机涂布盒,其包括一体式的左、右档板和刮板,在右档板设有进料孔,在刮板的左下端,设置出料孔;在左、右档板的内侧,分别设置磁吸器,在左、右档板的下方,设置有与涂布机圆柱滚轮相适应的弧形边;另一款涂布盒由两块方形板和两块倒梯形板组合而成的一体式结构,在一块倒梯形板的中下部位设置进料孔,在一块方形板的右下方设置出料孔,本实用新型设计了进料孔和出料孔,形成回料系统,保持了涂料具有流动性,这样就将浮在涂料上面的小气泡排走,同时也使涂料不会产生沉淀,涂布出来的胶粘层和发泡层更均匀,质量更高,干燥均匀,厚薄一致。

技术领域

本发明涉及电子元器件制造技术领域,具体是指生产片式电子元件用的一种涂布机涂布盒。

背景技术

当今世界,电子产品品种越来越多,功能日益强大,体积越来越小。这就要求制造电子产品的主要电子元件如电容、电阻、电感、传感器等,体积要尽量小,可靠性要尽量高。目前,只有片式陶瓷电子元件才能同时满足上述要求,陶瓷电子元件经过1000°C以上高温煅烧,其绝缘性、耐热性、耐久性及其他方面的均呈现优异性能。因此,片式陶瓷电子元件的制造、销售和使用得到蓬勃的发展。制造陶瓷电子元件必须使用陶瓷薄膜,在陶瓷薄膜上印刷电极,然后多张陶瓷薄膜叠层,经过层压、切割、烧结而成,陶瓷电子元件的应用也不断扩大。

现代工艺制造陶瓷电子元件需要使用热膨胀可剥离压敏胶片材,关于热膨胀可剥离压敏胶片材的制作方法,以及压敏胶片材上设置的胶粘层和发泡层的配方,制作工艺,申请人已经申请了发明专利和实用新型专利,发明专利《一种热膨胀可剥离的压敏胶片材和涂布机》,申请号2015110104853;实用新型专利《一种热膨胀可剥离的压敏胶片材的涂布机》,申请号2015211185139,解决了压敏胶片材需要进口的问题,更重要的是,将进口同类压敏胶片材的胶粘层和发泡层,由不干胶改为干性胶,解决了芯片不干胶附着、切偏和变形问题,上述专利的涂布机,涂布平整均匀,干燥均匀,厚薄一致。上述专利的实施,使电子元件制造商的生产成本下降,产品合格率上升,产品档次大大提高,可以生产中高端产品,也解决了中高端电子元件历来需要靠进口配套等问题,经济效益和社会效益显著。

上述专利涂布机,经过二年来的使用实践,发现有需要改进的地方,就是涂布盒问题,即胶粘层涂布盒和发泡层涂布盒问题,流动性的涂料进入涂布盒后,均匀涂布在PET薄膜底材上,而涂料中存在有极少量气泡,此气泡会堵在涂布盒出口和PET薄膜底材之间,使气泡处的涂布的涂料减少,涂布层变薄,干燥后形成透光的白线,降低了压敏胶片材上胶粘层或发泡层的厚度均匀性,从而对压敏胶片材上的电子元件生坯的质量造成不利影响,尤其对于小尺寸陶瓷电子元件的生产,影响更甚,甚至造成致命影响。

发明内容

本发明需要解决的问题是,克服背景技术生产线存在的不足,提供一种涂布机涂布盒。

本发明的技术思路:上述背景技术中的涂布机配套的涂布盒,功能较为单一,仅是容纳涂料料,并按一定厚度将涂料涂布在PET薄膜底材上,由于没有回料系统,导致涂料中存在的极少量气泡,无法排出,又无法自行消除;本发明设计了进料孔和出料孔,形成回料系统,保持了涂料具有流动性,这样就将浮在涂料上面的小气泡排走,同时也使涂料不会产生沉淀分层,涂布出来的胶粘层和发泡层更多均匀,质量更高。

本发明使用的技术方案如下:

一种涂布机涂布盒,所述涂布盒由左档板、刮板和右档板顺序连接而成,在右档板设有进料孔,在刮板的左下端,设置出料孔;在左、右档板的内侧,分别设置磁吸器;在左、右档板的下方,设置有与涂布机的圆柱滚轮相适应的弧形边。左、右档板下方的弧形边与圆柱滚轮不相互接触,距离为1-3mm;刮板与圆柱滚轮的距离为1-8mm,视需要进行灵活调节。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市森荣地科技有限公司,未经深圳市森荣地科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820458601.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top