[实用新型]一种深孔镀膜注塑料筒

说明书

本实用新型涉及一种深孔镀膜注塑料筒，属于表面处理技术领域，它解决了现有技术中深孔镀膜厚度不均的问题。本深孔镀膜注塑料筒，包括具有深孔的本体，其特征在于，所述的本体内孔的孔深/孔径大于等于1.5，所述的本体内孔的内壁通过离子镀膜形成镀膜层。本深孔镀膜注塑料筒采用PVD技术对深孔工件内部进行镀膜，采用交流偏压电源，带电粒子在工件交流电场作用下，一会被吸引沉积，一会被推斥运动，控制交流变化频率和正负脉冲比例，可以实现不同孔深的涂层加工，镀膜时真空压力控制在0.1‑2pa之间，目的是让离子自由程足够大，工艺中离子平均自由程最小100cm，可以运动到整个镀膜空间，工件淹没在镀膜离子里，实现PVD应用于深孔零件中。

技术领域

本实用新型属于表面处理技术领域，涉及一种表面处理技术，特别是一种深孔镀膜注塑料筒。

背景技术

PVD是一种应用非常广泛的表面处理和薄膜制备技术，大量应用在航空航天、医疗、食品、智能设备和机械制造领域，具体分为三种技术方式实现，蒸发、溅射和离子镀膜。PVD与CVD、水电镀相比，主要缺点是对于孔内镀膜能力有限，大量研究和生产实践证明，PVD对于孔件内孔可镀入深度为孔径的1-1.5倍，这限制了PVD在有孔内镀膜需求的应用。

离子镀膜过程中，在工件周围存在大量带电离子，这些带电离子在工件负电场的作用下，运动到工件表面沉积成膜。镀膜过程中，气体的运动以分子流为主，伴有粘滞流，孔内进入离子的数量减少，加之孔壁的负电场作用，随着孔深度增加，离子越来越少，这是导致不能对深孔进行有效镀膜的原因。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种针对深孔件进行离子镀膜的方法，形成内孔涂层的注塑料筒。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种深孔镀膜注塑料筒，包括具有深孔的本体，其特征在于，所述的本体内孔的孔深/孔径大于等于1.5，所述的本体内孔的内壁通过离子镀膜形成镀膜层。

在料筒内壁通过离子镀膜形成镀膜层后，可有效改进料筒的耐磨性、硬度等性能，有效提高工件使用寿命。

在上述的深孔镀膜注塑料筒中，所述的镀膜层为氮化钛涂层。根据工件的不同的性能要求，还可采用不同原子和镀膜条件形成不同功能的镀膜层。

在上述的深孔镀膜注塑料筒中，所述的膜层厚度为1-10μm。

在上述的深孔镀膜注塑料筒中，所述的镀膜层位于内孔前端与后端之间厚度差≤50％。

在上述的深孔镀膜注塑料筒中，所述的离子镀膜采用交流偏压电源，频率1kHZ到40kHZ，正负脉冲各占50％周期宽度，电压10-500V。

在上述的深孔镀膜注塑料筒中，所述的离子镀膜时充入工艺气体氮气，压力控制在0.1-1.0pa。

与现有技术相比，本深孔镀膜注塑料筒采用PVD技术对深孔工件内部进行镀膜，采用交流偏压电源，带电粒子在工件交流电场作用下，一会被吸引沉积，一会被推斥运动，控制交流变化频率和正负脉冲比例，可以实现不同孔深的涂层加工，镀膜时真空压力控制在0.1-1pa之间，目的是让离子自由程足够大，工艺中离子平均自由程最小100cm，可以运动到整个镀膜空间，工件淹没在镀膜离子里，实现PVD应用于深孔零件中。

附图说明

图1是本深孔镀膜注塑料筒离子镀膜方式与现有技术对比图；

图2是本深孔镀膜注塑料筒的剖视结构示意图。

图中，1、本体；2、镀膜层。

具体实施方式

以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。