[实用新型]一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构

说明书

本实用新型一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构，所述结构包含有盖置于托盘上方的上盖(1)，所述托盘和上盖(1)之间形成加热旋转腔，加热旋转载物盘(4)位于加热旋转腔内；所述托盘的底部设置有环形结构的旋涂内腔(3)，且上盖(1)的底部设置有环形结构的导流台阶(5)，且导流台阶(5)插置于旋涂内腔(3)中，所述上盖(1)的内壁为锥形结构，且上盖(1)的顶部盖壁上设置有排气孔(2)。本实用新型一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构，其能够对匀胶机内气流进行控制。

技术领域

本实用新型涉及一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构, 尤其是涉及一种应用于匀胶机上的结构，其能够将气流扰动降低，从而保证匀胶效果，属于光电技术领域。

背景技术

目前，匀胶机在旋涂过程中气流扰动对成膜质量影响较大；甚至有企业研发了如中国专利201510415328.4(2015.7.15)所示的一种“利用气流控制光刻胶膜厚度的匀胶装置及匀胶方法”，可见如何控制气体扰动是成膜质量的关键因素；但是常规的匀胶机的加热旋转腔内的气流杂乱无章，严重影响成膜质量。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构，其能够对匀胶机内气流进行控制。

本实用新型的目的是这样实现的：

一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构，所述结构包含有盖置于托盘上方的上盖，所述托盘和上盖之间形成加热旋转腔，加热旋转载物盘位于加热旋转腔内；所述托盘的底部设置有环形结构的旋涂内腔，且上盖的底部设置有环形结构的导流台阶，且导流台阶插置于旋涂内腔中，所述上盖的内壁为锥形结构，且上盖的顶部盖壁上设置有排气孔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过腔体调整，将原有内腔制作成斜面的造型，一可以减少内腔体积，降低成本，二可以减小气流扰动，优化成膜效果；并且通过旋涂内腔和导流台阶的引导维稳后吹向基片上的胶液，辅助旋转的加热旋转载物盘将胶液旋转甩开得更为均匀。

附图说明

图1为本实用新型一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构。

图2为本实用新型一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的气流扰动矢量模拟图。

其中：

上盖1、排气孔2、旋涂内腔3、加热旋转载物盘4、导流台阶5。

具体实施方式

参见图1～2，本实用新型涉及的一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构，所述结构包含有盖置于托盘上方的上盖1，所述托盘和上盖1之间形成加热旋转腔，加热旋转载物盘4位于加热旋转腔内；

所述托盘的底部设置有环形结构的旋涂内腔3，且上盖1的底部设置有环形结构的导流台阶5，且导流台阶5插置于旋涂内腔3中，所述上盖1 的内壁为锥形结构，且上盖1的顶部盖壁上设置有排气孔2；

本实用新型一种加热旋转时控制气流方向保证气流稳定的结构的气体流动控制方法为：使用前关闭上盖1，加热旋转载物盘4的盘面到达指定温度后开始旋转，气流如图2所示在加热旋转载物盘4的旋转带动下由加热旋转载物盘4的周边开始旋转下沉，下沉后的气流在旋涂内腔3中旋转减弱后，在旋涂内腔3内环流至上盖1下方，气流经过导流台阶5减弱后吹向上盖1顶部的排气孔2，排气孔2排出部分气体后最终残留在加热旋转腔内气流由上盖1的上方再次吹向加热旋转载物盘4的盘面，辅助匀胶机将表面的胶液甩开，从而形成一个气流回路。

另外：需要注意的是，上述具体实施方式仅为本专利的一个优化方案，本领域的技术人员根据上述构思所做的任何改动或改进，均在本专利的保护范围之内。