[实用新型]基板清洗设备

说明书

本实用新型公开了一种基板清洗设备，该基板清洗设备包含有一机座、一传输装置、一湿式清洁组及一干式清洁组，其中湿式清洁组与干式清洁组分别具有连续性无尘布条，利用传输装置夹掣与移动一基板，令基板可相对湿式清洁组与干式清洁组的擦拭组，供分别以无尘布条进行基板表面的喷湿擦拭及擦拭，从而能迅速且有效的去除表面附着的污染物，另外，本实用新型可进行两阶段清洁，其能在喷湿清洁后擦干水分，因此不会残留清洁水痕，有助于提升清洁质量。

技术领域

本实用新型涉及一种基板的清洗技术，具体而言涉及一种以基板清洗设备，藉以能快速、且有效的清理基板表面。

背景技术

半导体基板，如晶圆、面板、光罩等，其表面洁净度直接影响到制程与产品的合格率，因此在储存及制程中要不断的检查及清洁，以保持其洁净度。以其中光罩而言，由于集成电路的线径已发展至10纳纳米以下，因此制程中的任何污染物都可能直接影响到相对制程或产品的合格率，而用于晶圆Wafer表面形成集成电路的所使用的光罩Mask是微影制程中不可或缺的元件之一，如图1所示的光罩100剖面图来看，该光罩100包含有一板材110、一框架120及一保护膜150【Pellicle】，其中板材110为透光材质，例如石英或玻璃，而板材110具有两个平行间隔的表面111、112，其中一表面111中央具有一集成电路的图形层115【Pattern】，又该框架120设于该表面111且包围该图形层115，一般框架120的材质是阳极处理过的铝合金，另该保护膜150固定于框架120上，且其表面151与板材110表面111相互平行间隔，该保护膜150用来避免图形层115遭受刮伤或污染。

然而，光罩污染问题是一直存在的，不论是光罩100中的板材110表面112还是保护膜150表面151会附着污染物，这些污染物包含附着于表面的微粒、化学物质等，若受污染的光罩用于半导体微影制程时，会于晶圆上产生相对应的缺陷Defect。而传统光罩100板材110的表面112的清洗方法【非指保护膜150表面151】，以大量的清洗液针对板材110的表面112作一洁净处理，但过多的清洗液极易造成人员因吸入或直接接触该化学物质而不适，且清洗液清洁后于置干时易生成水痕，不仅会影响清洁板材110的效率，也会破坏板材110表面112的洁净度。另外，保护膜150所使用的黏胶为酯类结构(RCOOR)x，如聚丙烯酸酯的高分子结构，使用过量的硫酸与过氧化氢溶液的清洗液时，(RCOOR)x会水解成可流动但不溶于水的胶态物质(RCOOH)x，且(RCOOH)x可能造成光罩图案上的缺陷与光罩100的报废；

换言之，现有的光罩100板材110的清洁上存在有清洗效果与效率不彰的问题，对板材110清洗工作极大的困扰与不便，如何解决前述问题，是业界的重要课题。

实用新型内容

因此，本实用新型的主要目的在于提供一种的基板清洗设备，藉以能迅速、且有效的进行基板表面清洁，并可迅速且有效的缩短清洁时间。

又，本实用新型的次一主要目的在于提供一基板清洗设备，其可利用给水湿擦与干擦的两阶段清洁，可有效清洗基板表面，且清洗后不会残留水痕，有助于提升清洁效率。

为此，本实用新型主要通过下列的技术手段，来具体实现上述的各项目的与效能，用以清洁一基板，上述基板包含有至少一待清洗表面，该基板清洗设备包含有：

一机座；

一传输装置，其设于机座上，该传输装置具有一可移动的夹持机构，该夹持机构能够夹掣上述基板，使得该基板待清洗表面完全露出；

一湿式清洁组，其设于机座上，该湿式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组及一给水泵浦，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，且给水泵浦通过无尘布条接触基板区域向触抵元件提供清洁液，以使基板与触抵元件相对移动，供进行喷湿擦拭以去除污染物；