[实用新型]一种硅模板表面加工装置有效

专利信息
申请号: 201820137872.6 申请日: 2018-01-26
公开(公告)号: CN207913806U 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 潘尧 申请(专利权)人: 苏州锐材半导体有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 代理人: 陆晓鹰
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 伺服液压 表面加工装置 本实用新型 伺服 底部连接 升降装置 硅模板 滑动块 滑道 横向滑动连接 自动接料装置 自动送料装置 纵向移动装置 表面粗糙度 连接杆连接 倒置U型架 送料装置 自动横向 自动抓取 便捷度 腐蚀池 加工物 钳装置 氢氟酸 氧化池 上端 基板 架体 取料 腐蚀
【说明书】:

本实用新型公开了一种硅模板表面加工装置,包括一基座,所述基座上端连接有氧化池及腐蚀池,还包括一倒置U型架体,架体底部通过连接杆连接有一底部设有滑道的基板,滑道上横向滑动连接有伺服滑动块,伺服滑动块底部连接有伺服液压升降装置,伺服液压升降装置底部连接有伺服液压钳装置;同时,基座左侧设有自动接料装置,右侧设有自动送料装置;本实用新型采用自动横向、纵向移动装置和自动抓取、取料送料装置,可自动进行氧化以及进行氢氟酸内的腐蚀,大大提高了操作的便捷度,而且使加工物的表面粗糙度小于20nm。

技术领域

本实用新型涉及一种表面加工装置,尤其涉及一种硅模板表面加工装置。

背景技术

在生物与化学领域,微流控的发展也是越来越快,这对制作微流控的模板也有更高的要求,模板的精度影响着微流控的质量,目前采用的都是利用深硅刻蚀,来达到高精度硅模板的加工。

但是深硅刻蚀,粗糙度很难达到50nm以下,并且在硅模板的加工过程中,通常都是采用化学或者干法刻蚀来制作,但是在制作过程中会形成大小不均匀的缺陷,影响硅模板的粗糙度。

发明内容

本实用新型就是针对上述问题,提出一种硅模板表面加工装置,该硅模板表面加工装置可进一步提高硅模板表面光滑度,而且结构简单,操作方便。

为解决上述技术问题,本实用新型提供的一种硅模板表面加工装置,包括一基座,所述基座上端从左到右可拆式连接有氧化池以及用于放置氢氟酸的腐蚀池,还包括一倒置U型架体,所述倒置U型架体底部通过连接杆连接有一底部设有滑道的基板,所述滑道上横向滑动连接有基于伺服控制的伺服滑动块,所述伺服滑动块底部连接有基于伺服控制的伺服液压升降装置,所述伺服液压升降装置底部连接有基于伺服控制的伺服液压钳装置;同时,所述基座左侧设有自动接料装置,所述基座右侧设有自动送料装置,所述倒置U型架体左侧设有可供自动接料装置伸进和伸出的第一通孔;所述倒置U型架体右侧设有可供自动送料装置伸进和伸出的第二通孔。

作为本实用新型之优选,所述自动接料装置包括一基于伺服控制的第一伺服机械手,所述第一伺服机械手左端设有接料箱;所述自动送料装置包括基于伺服控制的第二伺服机械手,所述第二伺服机械手右端设有送料箱,所述送料箱底部设有弹簧,所述弹簧上端设有升降片。

本实用新型采用自动横向、纵向移动装置和自动抓取、取料送料装置,可自动进行氧化以及进行氢氟酸内的腐蚀,大大提高了操作的便捷度,而且使加工物的表面粗糙度小于20nm。

附图说明

图1所示的是本实用新型的外观结构图。

其中:1、基座;2、氧化池;3、腐蚀池;4、倒置U型架体;5、连接杆;6、滑道;7、基板;8、伺服滑动块;9、伺服液压升降装置;10、伺服液压钳装置;11、第一通孔;12、第二通孔;13、第一伺服机械手;14、接料箱;15、第二伺服机械手;16、送料箱;17、弹簧;18、升降片。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细地说明。

由图1可知,一种硅模板表面加工装置,包括一基座1,该基座1上端从左到右可拆式连接有氧化池2以及用于放置氢氟酸的腐蚀池3。

本实用新型还包括一倒置U型架体4,该倒置U型架体4底部通过连接杆5连接有一底部设有滑道6的基板7,滑道6上横向滑动连接有基于伺服控制的伺服滑动块8,伺服滑动块8底部连接有基于伺服控制的伺服液压升降装置9,伺服液压升降装置9底部连接有基于伺服控制的伺服液压钳装置10;同时,在基座1的左侧设有自动接料装置,在基座右侧设有自动送料装置,在倒置U型架体4左侧设有可供自动接料装置伸进和伸出的第一通孔11;在倒置U型架体4右侧设有可供自动送料装置伸进和伸出的第二通孔12。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州锐材半导体有限公司,未经苏州锐材半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820137872.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top