[实用新型]一种晶体抛光夹具有效
申请号: | 201820121903.9 | 申请日: | 2018-01-24 |
公开(公告)号: | CN207239978U | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | 杨舒童;崔胜友 | 申请(专利权)人: | 济南晶众光电科技有限公司 |
主分类号: | B24B41/06 | 分类号: | B24B41/06;B24B29/02 |
代理公司: | 济南千慧专利事务所(普通合伙企业)37232 | 代理人: | 姜月磊 |
地址: | 250000 山东省济南市高新区开*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶体 抛光 夹具 | ||
技术领域:
本实用新型涉及一种晶体抛光夹具。
背景技术:
在晶体的生产、加工作业中,通常包括晶体的抛光,目前,在抛光过程中,夹持晶体常用的方法是在拼装的模具中灌胶,以对晶体加以固定,但是,类似这样的夹具是一次性的,成本消耗大,而且,由于晶体对温度敏感的特性,易在灌胶过程中发生炸裂,因此,这种操作工艺相当复杂,对熟练度要求高,一个新的操作人员甚至需要半年才能掌握,耗时耗力,难以满足晶体生产、加工作业中的要求。
实用新型内容:
本实用新型为了弥补现有技术的不足,提供了一种晶体抛光夹具,它结构设计合理,能在抛光过程中对晶体提供稳定的夹持,操作简单,可重复使用,且适用于尺寸不同的晶体,解决了现有技术中存在的问题。
本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案是:
一种晶体抛光夹具,包括通过螺纹连接的底座和上盖,底座底面设有下晶体层,底座内设有第一凹槽,第一凹槽内侧壁设有内螺纹,底座侧壁上部沿周向设有若干个水平设置的第一顶丝孔,在每个第一顶丝孔内分别设有第一顶丝,底座底部和下晶体层中心沿竖直方向开设有第一通孔;上盖顶面设有上晶体层,上盖的侧表面设有与内螺纹相配合的外螺纹,上盖内设有第二凹槽,上盖侧壁沿周向设有若干个水平设置的第二顶丝孔,在每个第二顶丝孔内分别设有第二顶丝,上盖顶部和上晶体层中心沿竖直方向开设有第二通孔,第二凹槽内竖直设有一中部开孔的晶体夹持套,第一通孔、第二通孔和晶体夹持套的中部开孔位置对正设置。
优选的,所述晶体夹持套为聚四氟乙烯套管。
本实用新型采用上述方案,它结构设计合理,能在抛光过程中对晶体提供稳定的夹持,操作简单,一个新的操作人员半个月就能熟练使用,可重复使用,降低了成本,且适用于尺寸不同的晶体,实用性强。
附图说明:
图1是本实用新型的结构示意图。
图中,1、底座,2、上盖,3、下晶体层,4、第一凹槽,5、内螺纹,6、第一顶丝孔,7、第一顶丝,8、第一通孔,9、上晶体层,10、外螺纹,11、第二凹槽,12、第二顶丝孔,13、第二顶丝,14、第二通孔,15、晶体夹持套。
具体实施方式:
为能清楚说明本方案的技术特点,下面通过具体实施方式,并结合其附图,对本实用新型进行详细阐述。
如图1所示,一种晶体抛光夹具,包括通过螺纹连接的底座1和上盖2,底座1底面设有下晶体层3,底座1内设有第一凹槽4,第一凹槽4内侧壁设有内螺纹5,底座1侧壁上部沿周向设有若干个水平设置的第一顶丝孔6,在每个第一顶丝孔6内分别设有第一顶丝7,底座1底部和下晶体层3中心沿竖直方向开设有第一通孔8;上盖2顶面设有上晶体层9,上盖2的侧表面设有与内螺纹5相配合的外螺纹10,上盖2内设有第二凹槽11,上盖2侧壁沿周向设有若干个水平设置的第二顶丝孔12,在每个第二顶丝孔12内分别设有第二顶丝13,上盖2顶部和上晶体层9中心沿竖直方向开设有第二通孔14,第二凹槽11内竖直设有一中部开孔的晶体夹持套15,第一通孔8、第二通孔14和晶体夹持套15的中部开孔位置对正设置,第一顶丝7可对上盖起到锁紧作用,第二顶丝13可对晶体夹持套15起到锁紧作用,晶体夹持套15套设于晶体外,选用开孔尺寸不同的晶体夹持套15可用于固定尺寸不同的晶体。
所述晶体夹持套15为聚四氟乙烯套管,制作简单,成本低。
使用时,选用与所夹持晶体材料相同的上晶体层和下晶体层分别固定于上盖2顶面和底座1底面,然后选择与所夹持晶体直径相适合的晶体夹持套15套设于晶体外,将晶体夹持套15放置于上盖2的第二凹槽11内,晶体一端从第二通孔14中穿出,调整第二顶丝13锁紧晶体夹持套15,然后通过调整底座1和上盖2之间的螺纹结构调整合适的高度,使晶体的另一端从第一通孔8中穿出,调整第一顶丝7锁紧上盖2,完成对晶体的夹持后,操作人员手持本装置进行晶体的手动抛光操作,当晶体的一端抛光完成,可以直接翻转进行另一端的操作,使用简单、灵活,实用性强。
上述具体实施方式不能作为对本实用新型保护范围的限制,对于本技术领域的技术人员来说,对本实用新型实施方式所做出的任何替代改进或变换均落在本实用新型的保护范围内。
本实用新型未详述之处,均为本技术领域技术人员的公知技术。
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