[实用新型]一种可调节的光触媒混料釜底座有效

专利信息
申请号: 201820012276.5 申请日: 2018-01-04
公开(公告)号: CN207822957U 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 路跃莉;张洛维;程名扬 申请(专利权)人: 鞍山奇典光触媒高科技有限公司
主分类号: B01F15/00 分类号: B01F15/00
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 俞鲁江
地址: 114000 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 混料 底座 光触媒 横梁 本实用新型 调节螺杆 平行滑道 滑动槽 缓冲垫 可调节 限位块 调节螺杆螺纹 高度调节螺栓 可折叠万向轮 侧面设置 底座上部 底座下部 固定反应 焊接框架 横梁两端 滑动方向 平行横梁 水平滑动 罐体 竖直 位块 电机 仪表
【说明书】:

实用新型涉及光触媒技术领域,特别涉及一种可调节的光触媒混料釜底座,包括两条平行滑道和两条平行横梁,平行滑道上沿滑动方向开设滑动槽,横梁两端各设一个调节螺杆螺纹,调节螺杆可沿滑动槽水平滑动,调节螺杆上的高度调节螺栓调整高度;横梁与罐体接触的侧面设置有限位块,限位块上设置缓冲垫;底座下部安装可折叠万向轮。本实用新型的底座整体可自由移动,横梁可通过水平方向和竖直方向上的同时调整,满足不同尺寸混料釜的需要;横梁上的限位块可以定位混料釜处于底座正中,受到来自各个方向的作用力均匀、对等;缓冲垫使混料釜在混料过程中更加平稳;底座上部可以焊接框架,固定反应仪器、设备、仪表或电机,可以集成多种功能为一体。

技术领域

本实用新型涉及光触媒技术领域,特别涉及一种可调节的光触媒混料釜底座。

背景技术

光触媒是一种以纳米级二氧化钛为代表的具有光催化功能的光半导体材料的总称,在光的照射下,纳米光触媒会产生正负电子,正电子与空气中的水分子结合,产生氢氧自由基,具有强大的氧化分解能力,能将几乎所有的有机污染物和有害的部分无机化合物,如:臭味粒子、甲醛、苯、二甲苯、TVOC、SARS、新型H1N1、禽流感病毒、大肠杆菌、绿脓杆菌、金葡萄球菌等有毒有害气体、细菌、病毒分解成无毒的CO2和H2O;负电子与空气中的氧结合,产生活性氧(超级氧化离子),能破坏细菌等有机物的细胞膜、固化病毒的蛋白质,杀菌的同时分解细菌尸体释放出来的有害复合物。

在传统光触媒生产过程中,混料时通常是将混料釜移动至操作位置,但是由于混料釜体积大重量中,移动极其不方便,而且在混料过程常需要搅拌等操作,会产生剧烈的振动和摇晃,因此对混料釜的稳定性有较高要求。

实用新型内容

为了解决上述技术问题,本实用新型公开了一种可调节的光触媒混料釜底座。包括两条平行滑道和两条平行横梁,所述平行滑道上沿滑动方向开设滑动槽,所述横梁两端各开设一个带有内螺纹的调节孔,并与调节螺杆螺纹配合,调节螺杆可沿滑动槽滑动,并通过上螺栓和下螺栓拧紧固定在滑道上,横梁可通过调节螺杆上的高度调节螺栓调整高度;所述横梁与罐体接触的侧面设置有限位块,限位块上设置缓冲垫;底座下部可安装可折叠万向轮,底座上部可以焊接框架,固定反应仪器、设备、仪表或电机。

本实用新型的底座整体可自由移动,横梁可通过水平方向和竖直方向上的同时调整,满足不同尺寸混料釜的需要;横梁上的限位块可以定位混料釜处于底座正中,受到来自各个方向的作用力均匀、对等;缓冲垫使混料釜在混料过程中更加平稳;底座上部可以焊接框架,固定反应仪器、设备、仪表或电机,可以集成多种功能为一体。

具体技术方案如下:

一种可调节的光触媒混料釜底座,包括两条平行滑道和两条平行横梁,所述平行滑道上沿滑动方向开设滑动槽,所述横梁两端各开设一个带有内螺纹的调节孔,并与调节螺杆螺纹配合,调节螺杆可沿滑动槽滑动,并通过上螺栓和下螺栓拧紧固定在滑道上,横梁可通过调节螺杆上的高度调节螺栓调整高度;所述横梁与罐体接触的侧面设置有限位块。

所述底座下部可安装万向轮。

所述限位块上设置缓冲垫。

所述底座上部可以焊接框架,固定反应仪器、设备、仪表或电机。

本方法的优点是:

(1)本实用新型的底座设有两根横梁,可沿滑动槽相对滑动,达到调节距离的目的,以适应不同尺寸的混料釜,调整到合适的水平位置后通过上螺栓和下螺栓的配合将横梁固定即可,使用范围更广。

(2)本实用新型的底座横梁水平位置固定后,可通过两端的调节螺杆和高度调节螺栓的配合调节高度,满足固定不同高度的混料釜的需要。

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