[发明专利]一种干式清洗装置的收纳体组件以及干式清洗装置

说明书

本发明公开了一种干式清洗装置的收纳体组件，其包括：收纳体，用于容纳清洗介质，所述收纳体具有开口端，所述开口端构造成与清洗对象接触；气体动力单元，设置于所述收纳体上，并可将外界气体引入到所述收纳体中在所述收纳体中形成气流带动所述清洗介质同所述清洗对象相撞；吹吸端口，所述吹吸端口设置在所述收纳体上，对所述收纳体的内部进行吹气，以在所述收纳体的内部产生循环气流。本发明还公开了一种干式清洗装置。本发明公开的干式清洗装置的收纳体组件和干式清洗装置不产生清洗废液，具有环保的优点，且通过设置吹吸端口提高清洗效果。

技术领域

本发明涉及清洗设备领域，特别涉及一种干式清洗装置的收纳体组件以及干式清洗装置。

背景技术

目前清洗技术的发展对于处理电子、半导体和光学工业中的污染、室内有毒气体和粉尘污染有重要意义。

随着产品制备工艺条件的越加严格精准，污染物的去除要求也越来越苛刻，环保经济的高效清洗方法亟待研发。清洗方式主要分为两大类，即以液体为清洗介质的湿式清洗和以气体为清洗介质的干式清洗。湿式清洗以其高清洗性能和低清洗成本而得到普遍应用。近几年，出现了二流体清洗、超声清洗等新型的湿式清洗技术。然而在湿式清洗中，冲洗过程会产生水痕等二次污染，干燥过程会增加额外的能量消耗，酸类等化学添加剂的使用会对环境造成危害。此外，一些产品若有水吸附在表面会造成产品缺陷。

在电子产品的制备工艺过程中，如，在印制基板制造中的由流动焊锡槽锡焊工序中，大多使用遮覆锡焊处理区域以外的夹具。这种遮覆夹具在反复使用期间，表面堆积焊剂固结，由于遮覆精度降低，需要定期清洗。一般，这种清洗浸渍在溶剂中进行，消耗大量溶剂，不能避免成本上升，对作业者及环境的负担也非常大。不通过浸渍而在装置内向清洗对象物喷射溶剂的方式也为人们所公知，但也需要大量使用溶剂。

因此有必要提供一种环保而有效的清洗装置。

发明内容

本发明旨在克服现有技术存在的缺陷，本发明采用以下技术方案：

一方面，本发明提供了一种干式清洗装置的收纳体组件。所述干式清洗装置的收纳体组件包括：收纳体，用于容纳清洗介质，所述收纳体具有开口端，所述开口端构造成与清洗对象接触；气体动力单元，设置于所述收纳体上，并可将外界气体引入到所述收纳体中在所述收纳体中形成气流带动所述清洗介质同所述清洗对象相撞；吹吸端口，所述吹吸端口设置在所述收纳体上，对所述收纳体的内部进行吹气，以在所述收纳体的内部产生循环气流。

在一些实施例中，所述气体动力单元包括：压缩气体源；

气体喷射部，连接于所述压缩气体源，用于对所述收纳体内的清洗介质施加气体动力带动所述清洗介质同所述清洗对象相撞。

在一些实施例中，所述气体喷射部为多个，其均匀分布设置在所述收纳体的底部。

在一些实施例中，所述干式清洗装置的收纳体组件还包括上下位置调整单元，所述上下位置调整单元设置在所述收纳体上，并可调节所述气体喷射部在所述收纳体的内部上下方向上的位置。

在一些实施例中，所述上下位置调节单元包括：滑轨以及驱动件；

所述收纳体的底部设置有安装槽，所述气体喷射部安装在所述安装槽内，所述滑轨设置在所述安装槽与所述气体喷射部之间；

所述气体喷射部上设置有滑动部，所述滑动部设置在所述滑轨中，并可在所述驱动件的驱动下带动所述气体喷射部相对所述滑轨上下移动。

在一些实施例中，所述干式清洗装置的收纳体组件还包括左右摆动角度调整单元，所述左右摆动角度调整单元设置在所述收纳体上，并可调节所述气体喷射部在左右方向上的摆动角度。