[发明专利]光学构件的包装物的制造方法有效
| 申请号: | 201811583823.6 | 申请日: | 2018-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN109959984B | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
| 发明(设计)人: | 村山俊介;中原步梦;中田美惠 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
| 主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B1/14;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 构件 包装 制造 方法 | ||
1.一种光学构件的包装物的制造方法,其特征在于,包括:
工序A,在偏振片的单面或双面借助粘接剂层设置保护膜,从而制作偏振膜;
工序B,在所述偏振膜上至少设置粘合剂层及表面保护膜,从而制作光学构件;以及
工序C,将所述光学构件进行包装,
所述包装时的温度为15℃~25℃,所述包装时的相对湿度为45%Rh~65%Rh,
在将从将所述包装物拆开包装到将所述光学构件贴合于单元基板为止的所述光学构件中的偏振膜的平衡水分率设为X重量%时,
在所述工序C中,以使所述光学构件中的偏振膜的水分率Y重量%不小于所述平衡水分率X重量%的方式调整所述水分率Y重量%,
所述制造方法还包括:工序D,在从所述工序B到所述工序C为止之间,以使所述光学构件中的偏振膜的水分率Z重量%不小于所述平衡水分率X重量%的方式调整所述水分率Z重量%,
所述工序D的加湿处理时的温度为15℃~25℃,所述工序D的加湿处理时的相对湿度为45%Rh~65%Rh。
2.根据权利要求1所述的光学构件的包装物的制造方法,其中,在所述工序C中,以使所述水分率Y重量%与所述平衡水分率X重量%之差为0重量%~1重量%的方式调整所述水分率Y重量%。
3.根据权利要求1或2所述的光学构件的包装物的制造方法,其中,在所述工序C中,通过对所述光学构件进行加湿来调整所述水分率Y重量%。
4.根据权利要求1所述的光学构件的包装物的制造方法,其中,在所述工序D中,以使所述水分率Z重量%与所述平衡水分率X重量%之差为0重量%~1重量%的方式调整所述水分率Z重量%。
5.根据权利要求1或4所述的光学构件的包装物的制造方法,其中,在所述工序D中,通过对所述光学构件进行加湿来调整所述水分率Z重量%。
6.根据权利要求1或2所述的光学构件的包装物的制造方法,其中,从将所述包装物拆开包装到将所述光学构件贴合于单元基板为止的操作在洁净室内进行。
7.根据权利要求6所述的光学构件的包装物的制造方法,其中,所述洁净室被调整为处于15℃~25℃的温度范围内的一定温度且处于45%Rh~65%Rh的相对湿度内的一定湿度。
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