[发明专利]一种眼镜电镀废水的处理方法及处理装置在审

专利信息
申请号: 201811488482.4 申请日: 2018-12-06
公开(公告)号: CN109279719A 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 陈忻;陈晓刚;张永利 申请(专利权)人: 佛山科学技术学院
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04;C02F101/20;C02F103/16
代理公司: 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 代理人: 刘兴亮
地址: 528000 广东省佛山市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 电镀废水 眼镜 处理装置 污染物 废水 污水处理技术 反渗透装置 成分设计 处理工艺 废水处理 节约资源 泥水分离 排放标准 氢氧化物 运行成本 重金属 回用 混凝 絮凝 金属 节约
【权利要求书】:

1.一种眼镜电镀废水的处理装置,眼镜电镀废水的污染物包括重金属,其特征在于,所述处理装置包括:

预氧化池,眼镜电镀废水流入预氧化池,投加氧化剂氧化络合态的重金属,形成重金属离子;

pH调整池,预氧化池的出水流入pH调整池,投加碱形成重金属氧化物,并调整废水的pH值位于第一预设的范围内;

混凝池,pH调整池的出水流入混凝池,投加混凝剂,进行化学除磷;

絮凝池,混凝池的出水流入絮凝池,投加絮凝剂,形成絮体;

沉淀池,絮凝池的出水流入沉淀池进行沉淀,实现泥水分离;

清水池,沉淀池的上清液流入清水池,投加酸性溶液,调整清水池中的水的pH值为6~9;

超滤系统,清水池的水进入超滤系统,对胶体态进行过滤;

反渗透装置,超滤系统过滤后的水流入反渗透装置,进行反渗透,以去除残余的污染物;

回用池,反渗透装置处理后的水流入回用池。

2.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,所述pH调整池和混凝池为同一个水池,先后投加碱、混凝剂。

3.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,所述沉淀池包括:

初沉淀池,絮凝池的出水流入初沉淀池进行初次沉淀;

二沉淀池,初沉淀池的上清液流入二沉淀池进行第二次沉淀,二沉淀池的上清液流入清水池;

板框压滤机压所述初沉淀池和二沉淀池的污泥输送至污泥地,通过板框压滤机压滤出污泥中的水,压滤出的滤液回流至预氧化池,污泥进行干化处理。

4.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,还包括:

多介质过滤器,清洗废水流入多介质过滤器,对悬浮物进行过滤,多介质过滤器过滤后的水进入超滤系统;

超滤水箱,超滤系统过滤后的水流入超滤水箱;

增压泵,用于将超滤水箱的水泵入反渗透装置;

阻垢剂投加装置,用于向超滤水箱中投入阻垢剂;

精密过滤器,增压泵泵出的水经过精密过滤器的过滤后流入反渗透装置。

5.根据权利要求4所述的处理装置,其特征在于,还包括:

袋式过滤器,多介质过滤器过滤后的水流入袋式过滤器,进一步过滤废水中的悬浮物,袋式过滤器过滤后的水进入超滤系统。

6.根据权利要求1-5任一项所述的处理装置,其特征在于,还包括:

控制器;

固定在预氧化池中的ORP传感器;

固定在所述pH调整池中的第一pH传感器和固定在所述清水池中的第二pH传感器;

固定在预氧化池上的第一投料装置,固定在所述pH调整池上的第二投料装置,固定在所述清水池上的第三投料装置;

所述控制器与ORP传感器和第一投料装置连接,用于控制所述第一投料装置向所述预氧化池中投加氧化剂,以控制所述预氧化池中废水的ORP值位于第二预设的范围内;

所述控制器与第一pH传感器和第二投料装置连接,用于控制所述第二投料装置向所述pH调整池中投加碱,以控制所述pH调整池中废水的pH值位于第一预设的范围内;

所述控制器与第二pH传感器和第三投料装置连接,用于控制所述第三投料装置向所述清水池中投加混凝剂酸性溶液,以调整清水池中的水的pH值为6~9。

7.根据权利要求6所述的处理装置,其特征在于,还包括:

所述反渗透装置还包括反冲洗装置,用于对反渗透装置的渗透膜进行反冲洗,反冲洗浓水回流至超滤系统;

所述反冲洗装置包括反冲泵和为所述反冲泵供电的第一电源,所述反冲泵的电机和电源之间设置有第一电磁阀和第一手动阀,第一电磁阀和第一手动阀并联在所述反冲泵的电机和第一电源之间;

所述控制器与所述第一电磁阀连接,用于控制第一电磁阀打开或闭合。

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