[发明专利]一种便于维护和调节的射频离子源装置有效
| 申请号: | 201811486384.7 | 申请日: | 2018-12-06 |
| 公开(公告)号: | CN109755085B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
| 发明(设计)人: | 王小军;李建鹏;张天平;李兴达;张兴民;赵成仁 | 申请(专利权)人: | 兰州空间技术物理研究所 |
| 主分类号: | H01J27/02 | 分类号: | H01J27/02;H01J27/16 |
| 代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 温子云;仇蕾安 |
| 地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 便于 维护 调节 射频 离子源 装置 | ||
本发明公开了便于维护和调节的射频离子源装置,该装置中外壳的前盖和后座采用可拆分的连接方式与外壳主体固定;栅极组件与放电室配合安装后,固定于外壳的前盖;离子源供气单元固定于外壳的后座,离子源供气单元的气路接头伸入放电室上开设的供气孔,对放电室供气;线圈通过可调线圈支架组件缠绕于放电室外壁,可调线圈支架组件固定于外壳的后座,且高度可调;线圈端部通过穿壳绝缘组件穿出外壳;可调线圈支架组件与线圈接触的部分采用绝缘材料。本发明线圈位置可调,方便找到不同规格线圈与放电室的最佳匹配位置,而且射频离子源进气部分容易拆卸,方便实现对栅极组件等耗材的维护清洗更换。
技术领域
本发明涉及离子源技术领域,尤其涉及一种便于维护和调节的射频离子源装置。
背景技术
离子源是电离原子或分子的设备,广泛应用与离子推力器、离子束刻蚀及辅助镀膜机、质谱仪等,现有射频离子源进气往往采取焊接密封方式,不易拆卸清洗维护栅极等耗材,同时目前线圈构型与放电室的匹配机理研究不是十分完善,设计一种可调节线圈位置的离子源可以节约成本,迭代优化找到不同规格线圈与放电室的最佳匹配位置。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种便于维护和调节的射频离子源装置,其线圈位置可调,方便找到不同规格线圈与放电室的最佳匹配位置,而且射频离子源进气部分容易拆卸,方便实现对栅极组件等耗材的维护清洗更换。
为了解决上述技术问题,本发明是这样实现的:
一种便于维护和调节的射频离子源装置,包括:外壳、栅极组件、放电室、离子源进气单元、可调线圈支架组件和线圈;
所述外壳的前盖和后座采用可拆分的连接方式与外壳主体固定;
栅极组件与放电室配合安装后,固定于外壳的前盖;离子源供气单元固定于外壳的后座,离子源供气单元的气路接头伸入放电室上开设的供气孔,对放电室供气;
线圈通过可调线圈支架组件缠绕于放电室外壁,可调线圈支架组件固定于外壳的后座,且高度可调;线圈端部通过穿壳绝缘组件穿出外壳;可调线圈支架组件与线圈接触的部分采用绝缘材料。
优选地,所述离子源供气单元包括气路绝缘器、气路接头、上安装法兰和下安装法兰;气路绝缘器和气路接头通过上安装法兰和下安装法兰固定连接后,气路绝缘器固定于外壳的后座,气路接头伸入放电室上开设的供气孔。
优选地,放电室的供气孔处设置卡槽配合安装保护机构,该卡槽配合安装保护机构由穿孔卡槽、平垫圈和挡圈组成;穿孔卡槽设置在供气孔内,穿孔卡槽一端加工有直径大于所述供气孔的外沿,另一端套入平垫圈和挡圈,并通过所述外沿与挡圈的配合,实现穿孔卡槽在所述供气孔处的定位。
优选地,所述穿壳绝缘组件由压板和2个穿壳绝缘陶瓷组成;穿壳绝缘陶瓷上端穿过压板通孔,下端穿过后座上通孔,通过压板安装在后座上;线圈端部通过穿壳绝缘陶瓷提供的通道伸出外壳;穿壳绝缘陶瓷是由2个对半切开的部分对合组成,对线圈进行夹紧固定。
优选地,所述可调线圈支架组件由线圈安装架和可调高度的支撑组件组成;线圈安装架上开设有用于穿过线圈的安装孔,线圈安装架通过支撑组件固定于后座;线圈安装架采用绝缘材料。
优选地,所述支撑组件由支撑架和支撑板组成;支撑架为L型机构,一直角边固定于后座,另一直角边上开有U型槽;支撑板上开设有多个可供选择的定位孔;线圈安装架与支撑板之间,以及支撑板与支撑架之间均通过螺栓固定;通过调整支撑板上定位孔与支撑架U型槽的螺栓连接配合位置,实现线圈能量与放电室不同位置的耦合。
优选地,线圈安装架由两个部分对合而成,这两个部分均开设有半圆结构安装孔,对合后形成圆形结构安装孔,用于穿过线圈。
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