[发明专利]一种石英坩埚及其石英坩埚多次涂层的工艺方法在审
| 申请号： | 201811443872.X | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN109267148A | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 陈培杰;马国瑞;霍志强;王凯;许建;郭谦;刘有益;高树良;谷守伟;高润飞 | 申请（专利权）人： | 内蒙古中环光伏材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C30B15/02;C30B29/06 |
| 代理公司： | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人： | 栾志超 |
| 地址： | 010070 内蒙古自*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石英坩埚 透明层 气泡复合层 直拉单晶 碳酸钡 碳酸钡涂层 表面涂覆 使用寿命 依次设置 硅溶液 内壁 坩埚 腐蚀 | ||
1.一种石英坩埚，其特征在于：包括气泡复合层、透明层和涂层，所述涂层包括第一涂层和第二涂层，所述气泡复合层、所述透明层、所述第一涂层与所述第二涂层从外至内依次设置。
2.根据权利要求1所述的石英坩埚，其特征在于：所述第一涂层为碳酸钡。
3.根据权利要求1或2所述的石英坩埚，其特征在于：所述第二涂层为硅酸钡。
4.根据权利要求3所述的石英坩埚，其特征在于：所述气泡复合层与所述透明层的厚度之和不变。
5.根据权利要求4所述的石英坩埚，其特征在于：所述气泡复合层的石英砂纯度小于所述透明层石英砂纯度。
6.根据权利要求5所述的石英坩埚，其特征在于：所述透明层石英砂纯度为99.9999％。
7.一种石英坩埚多次涂层的工艺方法，其特征在于：包括以下步骤，
步骤一：在所述石英坩埚透明层表面涂覆一层钡溶液；
步骤二：在直拉单晶取段复投阶段加入碳酸钡，所述碳酸钡进入所述坩埚后位于所述石英坩埚的R角处。
8.根据权利要求7所述的石英坩埚多次涂层的工艺方法，其特征在于：所述步骤二中投入所述碳酸钡的装置为复投筒，所述碳酸钡位于距离所述复投筒底部1/3-1/2处。
9.根据权利要求7或8所述的石英坩埚多次涂层的工艺方法，其特征在于：所述碳酸钡的重量为2-5g。
10.根据权利要求9所述的石英坩埚多次涂层的工艺方法，其特征在于：所述钡溶液为氢氧化钡饱和溶液。。
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