[发明专利]投影模组、成像装置及电子装置在审

专利信息
申请号: 201811268648.1 申请日: 2018-10-29
公开(公告)号: CN111107331A 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 李宗政;陈冠宏;林君翰;周祥禾;詹明山 申请(专利权)人: 南昌欧菲生物识别技术有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄德海
地址: 330013 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 投影 模组 成像 装置 电子
【权利要求书】:

1.一种投影模组,其特征在于,包括:

光源,所述光源包括第一中心;

设置于所述光源上方的光罩,所述光罩包括第二中心,所述第二中心与所述第一中心沿所述投影模组的轴向对齐;

设置于所述光罩上方的投影透镜,所述投影透镜的光轴与所述第一中心和所述第二中心偏移设置。

2.如权利要求1所述的投影模组,其特征在于,所述第一中心与所述投影透镜的光轴的偏移距离为0.110mm-0.140mm。

3.如权利要求1所述的投影模组,其特征在于,所述投影模组包括扩散器,所述扩散器位于所述光源和所述光罩之间。

4.如权利要求3所述的投影模组,其特征在于,所述扩散器和所述光源间隔设置,所述扩散器和所述光罩间隔设置。

5.如权利要求3所述的投影模组,其特征在于,所述光源用于发射光线,所述扩散器用于将所述光源发射的光线扩散形成均匀光线,所述光罩用于将所述扩散器出射的均匀光线投射形成结构化光线,所述投影透镜用于投影所述结构化光线。

6.如权利要求5所述的投影模组,其特征在于,所述光罩包括透光区域和遮光区域,所述透光区域形成有结构化图案,所述结构化图案用于形成所述结构化光线。

7.如权利要求1所述的投影模组,其特征在于,所述光源包括垂直腔面发射激光器阵列,所述垂直腔面发射激光器阵列包括呈阵列分布的多个垂直腔面发射激光器。

8.如权利要求1所述的投影模组,其特征在于,所述投影模组包括致动器,所述致动器用于调整所述第一中心与所述投影透镜的光轴的偏移距离和所述第二中心与所述投影透镜的光轴的偏移距离,所述第一中心与所述投影透镜的光轴的偏移距离和所述第二中心与所述投影透镜的光轴的偏移距离相同。

9.一种成像装置,其特征在于,包括接收模组和权利要求1-8任一项所述的投影模组,所述投影模组用于向待测物体投射光线,所述接收模组用于接收经所述待测物体反射的所述投影模组投射的光线并成像。

10.一种电子装置,其特征在于,包括壳体和权利要求9所述的成像装置,所述成像装置安装在所述壳体内。

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