[发明专利]一种基于等离子体流动控制的宽域超声速进气道

权利要求书

1.一种基于等离子体流动控制的宽速域超声速进气道(1)，其特征在于，包括进气道主体(13)和整流罩(14)，所述进气道主体(13)和整流罩(14)之间形成进气通道，所述进气道主体(13)前端表面设有表面电弧放电等离子体激励装置(2)。

2.根据权利要求1所述的基于等离子体流动控制的宽速域超声速进气道(1)，其特征在于，所述进气道主体(13)的前部为进气道弯曲壁面(3)。

3.根据权利要求2所述的基于等离子体流动控制的宽速域超声速进气道(1)，其特征在于，整流罩(14)前端与进气道主体(13)之间形成进气道唇口(4)，进气道主体(13)前端后部与整流罩(14)之间形成进气道喉道(7)，进气道主体(13)的后端与整流罩(14)后部之间形成进气道隔离段(8)。

4.根据权利要求2所述的基于等离子体流动控制的宽速域超声速进气道(1)，其特征在于，所述表面电弧放电等离子体激励装置(2)布置在所述进气道弯曲壁面(3)的前端。

5.根据权利要求1-4任一项所述的宽速域超声速进气道(1)的压缩面激波系的控制方法，其特征在于，当进气道飞行马赫数大于设计马赫数时，开启表面电弧放电等离子体激励装置(2)，表面电弧放电等离子体激励装置(2)能够在进气道弯曲壁面(3)上的激励区产生高温等离子体层(11)，形成虚拟型面，增强虚拟型面前缘激波(12)，推动进气道压缩面外压激波系(9)向外偏转，从而使得压缩面外压激波系(9)重新封口。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述设计马赫数为马赫4。