[发明专利]固相基底、其处理方法和用途

说明书

一种固相基底、其处理方法和用途，该固相基底具有至少一个硅烷化的表面，该表面为暴露于特定环境中一定时长的表面，特定环境为惰性气体环境，特定环境的温度选自37℃至60℃，一定时长为不小于2小时。本发明改善了固定到固相基底表面上的核酸分子分布密度以及稳定性，提高了芯片质量，用于测序中能够改善测序质量。

技术领域

本发明涉及核酸芯片技术领域，具体涉及一种固相基底、其处理方法和用途。

背景技术

芯片是核酸测序中的重要工具，广泛应用于各种类型的核酸测序中，尤其是第三代单分子测序芯片是由核酸(例如DNA)片段随机固定在玻璃等基底上形成数百万个单分子点而得到。核酸分子密度及稳定性主要由基底表面活性基团镀层的密度及分布状态决定。

现有技术中，通常使用硅烷分子在芯片基底表面进行硅烷化反应形成硅烷化的改性表面，即活性基团镀层。硅烷化反应后的芯片基底一般放置在惰性气体中。但是，在实际生产与研发过程中，会出现核酸分子分布密度不易控制，且稳定性差等问题，直接影响测序质量。

国际申请WO2012027561公开了一种将核酸分子固定在基底表面上用于增强DNA测序的方法，该方法中在核酸分子固定之前或之后，在90℃以上的高温水性环境中处理。该方法能够改善核酸分子在基底表面上的固定效果。但是核酸分子分布密度以及稳定性方面依然存在难以控制和不稳定的问题。

发明内容

本发明提供一种能够显著改善核酸分子分布密度和稳定性的固相基底、其处理方法和用途。

根据第一方面，一种实施例中提供一种固相基底，该固相基底具有至少一个硅烷化的表面，上述表面为暴露于特定环境中一定时长的表面，上述特定环境为惰性气体环境，上述特定环境的温度选自37℃至60℃，上述一定时长为不小于2小时。

进一步地，上述一定时长满足预设关系，上述预设关系为上述表面暴露于上述特定环境的时长和该表面能够固定上的核酸分子的量之间的关系，上述表面能够实现固定到其上的核酸分子的量达到期望值。

进一步地，上述特定环境的温度选自37℃至57℃。

进一步地，上述特定环境的温度为37℃、47℃或57℃。

进一步地，上述一定时长为1天以上、2个月以下。

进一步地，上述一定时长为2天以上、1个月以下。

进一步地，上述一定时长为4天。

进一步地，上述特定环境的相对湿度为30-70％。

进一步地，上述特定环境的相对湿度为45-55％。

进一步地，上述特定环境的相对湿度为55％。

进一步地，上述固相基底为玻璃和/或石英。

进一步地，上述固相基底通过化合物修饰获得上述硅烷化的表面，上述化合物包含能够与氨基化核酸分子中的氨基或者巯基化核酸分子中的巯基发生共价连接的基团。

进一步地，上述基团选自环氧基、醛基、羧基、马来酸酐、N-羟基琥珀酰亚胺和马来酰亚胺基团中的一种或多种。

进一步地，上述化合物选自3-(2,3-环氧丙氧)丙基三乙氧基硅烷、5,6-环氧己基三乙氧基硅烷、5,6-环氧己基三甲氧基硅烷、3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷(GOPTS)、环氧丙基三甲氧基硅烷、环氧丙基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己烷基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己烷基)乙基三甲氧基硅烷中的一种或多种。

进一步地，上述预设关系为线性关系。