[发明专利]一种投影式光源装置

说明书

本发明提供了一种投影式光源装置，包括依次设置的灯珠光源、光线收集系统、均光系统和成像系统；所述光线收集系统包括两个对称设置的的平凸透镜，两个所述平凸透镜的平面镜片朝外，凸面镜片相对设置；所述均光系统为一根截面为矩形的石英长方体方棒，所述方棒的入光面镶嵌在一块阳极氧化发黑的吸光板内，所述方棒的出光面设有掩膜板；所述成像系统包括依次设置的第一透镜、光阑、第二透镜、第三透镜、第四透镜和投影成像面板，所述第一透镜和第二透镜均为双凸面正透镜，所述第三透镜为双凹面负透镜，所述第四透镜为新月形负透镜，所述新月形负透镜的凹面朝向所述第三透镜；本发明可进行高精度的成像，实现光刻的效果，分辨率达35线对/毫米。

技术领域

本发明涉及电子电器技术领域，特别涉及一种投影式光源装置。

背景技术

紫外光固化技术(UV技术)是指在特殊配方的体系(称为光固化体系)中加入光引发剂(或光敏剂)，经过吸收紫外线(UV)光固化设备中产生的高强度紫外光后，产生活性自由基或阳离子，从而引发聚合、交联和接枝反应，使其在一定时间内由液态转化为固态的技术。

一般类型的紫外光源使用汞灯光源，光电转换效率低而且制造过程对环境有污染。配光方式使用一次配光或简单的二次配光设计，出光效率低且结构体积庞大。且由于汞灯使用寿命短，需经常跟换灯管，对精密的光学系统有影响。

因LED芯片表面有不发光且吸收紫外的金手指，再加上LED芯片发光区域发光满足朗伯分布，经过光线收集系统后，会形成一个中心光辐射照度高、边缘光辐射照度低的光斑，光斑的辐照度梯度分布与余弦函数的分布类似。如果以该光斑照射到掩膜版，再经过成像系统成像，会产生一个照度不均匀的光刻图案，导致最终显影的图案长宽或深浅不一致，产出不良产品。

因此，开发一种可进行高精度的成像，实现光刻的效果的投影式光源装置成为亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术之缺陷，提供了一种投影式光源装置，采用紫外发光二极管LED光源，利用高性能LED灯珠作为光源，经过收集光线系统的透镜进入均光系统中，在均光系统中多次反射后，光线均匀的照射在掩膜版上，后方特别设计的成像物镜将掩膜版上的图形投影至被照物体的表面，因而可把光源掩膜版的图形转换投影至胶水和油墨的表面，进行高精度的成像，实现光刻的效果。

本发明是这样实现的：

本发明提供一种投影式光源装置，包括依次设置的紫外灯珠光源、光线收集系统、均光系统和成像系统；

所述光线收集系统包括两个对称设置的的平凸透镜，两个所述平凸透镜的平面镜片朝外，凸面镜片相对设置；

所述均光系统包括从光线入射方向依次设置的一块阳极氧化发黑的吸光板、一根截面为矩形的石英长方体方棒、以及掩膜板，所述方棒的入光面镶嵌在所述吸光板内，所述方棒的出光面设有所述掩膜板；

所述成像系统包括从光线入射方向依次设置的第一透镜、光阑、第二透镜、第三透镜、第四透镜和投影成像面板，所述第一透镜和第二透镜均为双凸面正透镜，所述第一透镜的入光面朝向所述掩膜板，所述第三透镜为双凹面负透镜，所述第四透镜为新月形负透镜，所述新月形负透镜的凹面朝向所述第三透镜。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的一种投影式光源装置，采用紫外发光二极管LED光源，利用高性能LED灯珠作为光源，经过收集光线系统的透镜进入均光系统中，在均光系统中多次反射后，光线均匀的照射在掩膜版上，后方特别设计的成像物镜将掩膜版上的图形投影至被照物体的表面，因而可把光源掩膜版的图形转换投影至胶水和油墨的表面，进行高精度的成像，实现光刻的效果。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种投影式光源装置的结构示意图；