[发明专利]光源装置和投影装置有效

专利信息
申请号: 201811168234.1 申请日: 2018-10-08
公开(公告)号: CN109597273B 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 宫崎健 申请(专利权)人: 卡西欧计算机株式会社
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B26/08
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝;张艳凤
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光源 装置 投影
【权利要求书】:

1.一种光源装置,其特征在于,具有:

激发光源,其出射激发光;以及

荧光轮,其具备:基材;荧光发光区域,其形成于上述基材的一个面,发出与上述激发光不同的波段的荧光;以及反射区域,其以与上述基材的上述一个面的上述荧光发光区域并排设置的方式配置,使上述激发光反射,

上述荧光发光区域中的上述激发光的照射位置与上述反射区域中的上述激发光的照射位置在上述荧光轮的径向上的位置相互不同,

从上述基材的上述一个面到上述荧光发光区域的表面的高度不同于从上述基材的上述一个面到上述反射区域的表面的高度,

上述反射区域包括:反射构件,其形成在上述基材的表面上或切口透孔部,包含金属;以及扩散透射部,其形成在上述反射构件上。

2.根据权利要求1所述的光源装置,

上述激发光倾斜入射到上述基材的上述一个面。

3.根据权利要求1所述的光源装置,

具有配置在上述激发光的光路上的聚光透镜,

上述荧光发光区域的发光点和上述反射区域的反射点中的任意一方与上述聚光透镜的光轴错开配置。

4.一种光源装置,其特征在于,具有:

激发光源,其出射激发光;

荧光轮,其具备:基材;荧光发光区域,其形成于上述基材的一个面,发出与上述激发光不同的波段的荧光;以及反射区域,其以与上述基材的上述一个面的上述荧光发光区域并排设置的方式配置,使上述激发光反射;以及

光路变更部,其使从上述激发光源出射的激发光反射而使其朝向上述荧光轮照射,

上述荧光发光区域中的上述激发光的照射位置与上述反射区域中的上述激发光的照射位置在上述荧光轮的径向上的位置相互不同,

从上述基材的上述一个面到上述荧光发光区域的表面的高度不同于从上述基材的上述一个面到上述反射区域的表面的高度,

上述光路变更部使反射后的上述激发光的照射位置在上述荧光发光区域与上述反射区域之间进行切换。

5.根据权利要求4所述的光源装置,

上述激发光倾斜入射到上述基材的上述一个面。

6.根据权利要求4所述的光源装置,

具有配置在上述激发光的光路上的聚光透镜,

上述荧光发光区域的发光点和上述反射区域的反射点中的任意一方与上述聚光透镜的光轴错开配置。

7.根据权利要求4所述的光源装置,

上述光路变更部具备使上述激发光朝向上述荧光轮反射的镜子,上述镜子变更使上述激发光反射的角度,切换上述激发光的照射位置,

或者,上述光路变更部具有基板,上述基板具备第1反射板和第2反射板,上述第1反射板具有对上述反射区域进行照射的规定的第1角度,上述第2反射板具有对上述荧光发光区域进行照射的规定的第2角度,上述光路变更部使上述基板旋转,来切换上述激发光的照射位置。

8.一种光源装置,其特征在于,具有:

激发光源,其出射激发光;以及

荧光轮,其具备:基材;荧光发光区域,其形成于上述基材的一个面,发出与上述激发光不同的波段的荧光;以及反射区域,其以与上述基材的上述一个面的上述荧光发光区域在圆周方向上并排设置的方式配置,使上述激发光反射,

上述荧光发光区域中的上述激发光的照射位置与上述反射区域中的上述激发光的照射位置在上述荧光轮的径向上的位置相互不同,

从上述基材的上述一个面到上述荧光发光区域的表面的高度不同于从上述基材的上述一个面到上述反射区域的表面的高度。

9.根据权利要求8所述的光源装置,

上述激发光倾斜入射到上述基材的上述一个面。

10.根据权利要求8所述的光源装置,

具有配置在上述激发光的光路上的聚光透镜,

上述荧光发光区域的发光点和上述反射区域的反射点中的任意一方与上述聚光透镜的光轴错开配置。

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