[发明专利]一种基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器在审

专利信息
申请号: 201811075018.2 申请日: 2018-09-14
公开(公告)号: CN109410888A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 楼君捷;叶志;刘旸 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G09G5/00 分类号: G09G5/00
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 曹兆霞
地址: 310013 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 差分运算放大器 晶体管 增强型晶体管 薄膜晶体管 差分输入级 共源放大级 输出缓冲级 透明 耗尽型晶体管 耗尽型器件 偏置电压 输出阻抗 质量离子 最大输出 阈值电压 高增益 共源级 摆幅 单端 可控 运放 输出
【权利要求书】:

1.一种基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器,包括:差分输入级、共源放大级以及输出缓冲级,其特征在于,

差分输入级为差分输入、单端输出的放大电路,包括由第一TFT、第二TFT以及第三TFT组成用来得到差分输入级尾电流所需的理想偏置电压,其中,第一TFT、第二TFT以及第三TFT均是漏栅短接的形式,通过调节TFT的宽长比得到不同的分压效果;还包括第九TFT、第十一TFT构成所述放大电路的输入对管,第九TFT的栅极为差分输入级的正相输入端,第十一TFT的栅极为差分输入级的反相输入端,第九TFT的漏极连接第八TFT的源极和第四TFT的栅极,第八TFT为第九TFT的负载,第十一TFT的漏极连接第十TFT的源极和第六TFT的栅极,第十TFT为第十一TFT的负载,第四TFT的源极连接第五TFT的漏极,第六TFT的源极连接第七TFT的漏极,第五TFT的漏栅级短接后并连接第七TFT的栅极,第九TFT的源极和第十一TFT的源极相连且都连接第十二TFT的漏极,第十二TFT的栅极与第三TFT的栅极相连,第一TFT的漏极、栅极和第四TFT、第八TFT、第十TFT、第六TFT的漏极都连接电源电压,第六TFT的源极为差分放大级的单端输出端,第四、五、六、七TFT实现了差分输入至单端输出信号;

共源放大级的输入端连接差分输入级的输出信号,包括第十三TFT和第十四TFT,其中,第十四TFT的栅极为共源放大级的输入,与差分放大级的输出即第六TFT的源极相连,第十三TFT的栅源短接,作为第十四TFT的负载;第十四TFT的漏极与第十三TFT的栅源短接端相连,构成所述共源放大级的输出;

输出缓冲级的输入端连接所述共源放大级的输出端,包括第十五TFT、第十六TFT、第十七TFT以及第十八TFT,其中,第十六TFT的栅极连接第十三TFT的源极,第十五TFT作为第十六TFT的负载,其漏栅极短接于电源电压,第十八TFT的栅极连接第十三TFT的源极,其漏极与第十七TFT的源极相接,作为整个电路的输出端,第十七TFT的栅极与第十五TFT的源极相接,其漏极连接到电源电压;

其中,所有TFT均为N型TFT,第十三TFT和第十七TFT为耗尽型TFT,剩余TFT为增强型TFT。

2.如权利要求1所述的基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器,其特征在于,所述差分输入级还包括第十九TFT、第二十TFT以及第二十一TFT,第二十TFT的栅极与差分输入级的正相输入端相连,第二十一TFT的栅极与差分输入级的负相输入端相连,第二十TFT的源极与第二十一TFT的源极相连且都连接第十二TFT的漏极,第二十TFT的漏极与第二十一TFT的漏极相连且都连接第十九TFT的源极,第十九TFT的漏极和栅极均连接电源电压。

3.如权利要求2所述的基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器,其特征在于,所述第八TFT、第十TFT以及第十九TFT均为耗尽型TFT。

4.如权利要求1所述的基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器,其特征在于,所述第六TFT的栅极与所述第十七TFT的栅极之间添加有补偿电容。

5.如权利要求1所述的基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器,其特征在于,所有TFT由透明半导体材料制备得到,述透明半导体材料为锌、锡、铜或铟的氧化物,或者锌、锡、铜、铟、铝、钛、银或镓的其中两种或两种以上的氧化物的混合物。

6.如权利要求1所述的基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器,其特征在于,所述耗尽型TFT通过以下制备方法获得:

采用等离子体增强化学的气相沉积法对TFT进行轻质量离子注入处理,控制功率为60~80W,处理时间为8min~12min,使轻质量离子注入到TFT的沟道层,以使TFT的阈值电压分布在零点两侧,进而获得耗尽型TFT。

7.如权利要求6所述的基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器,其特征在于,所述轻质量离子包括氢离子、氘离子或硼离子。

8.如权利要求7所述的基于薄膜晶体管的透明差分运算放大器,其特征在于,对TFT进行氘离子注入处理,控制功率为70W,处理时间为10min,使轻质量离子注入到TFT的沟道层,以使TFT的阈值电压分布在零点两侧,进而获得耗尽型TFT。

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