[发明专利]用于制造显示装置的设备

权利要求书

1.用于制造显示装置的设备，包括：

腔室；

掩模组件，所述掩模组件布置在所述腔室内部；

源部，所述源部布置成与所述掩模组件相对，并且向所述掩模组件喷射沉积物质以使所述沉积物质沉积到显示衬底上；

磁体部，所述磁体部布置在所述腔室内部，并且通过向所述掩模组件施加电磁力使所述掩模组件紧贴到所述显示衬底侧；

激光照射部，所述激光照射部布置在所述腔室内部，并且向所述显示衬底、所述掩模组件和所述磁体部照射激光；

激光感测部，所述激光感测部布置在所述腔室内部，并且感测由所述显示衬底、所述掩模组件和所述磁体部反射的激光；以及

控制部，所述控制部通过对由所述激光感测部感测到的激光进行分析来确定与所述掩模组件对应的频率，

其中，所述控制部根据与所述掩模组件对应的频率来调节由所述磁体部施加至所述掩模组件的电磁力。

2.如权利要求1所述的用于制造显示装置的设备，其中，所述磁体部基于由所述激光感测部感测到的结果仅调节施加至所述掩模组件的电磁力中的一部分。

3.如权利要求1所述的用于制造显示装置的设备，还包括：

冷却板，所述冷却板布置在所述磁体部与所述显示衬底之间。

4.如权利要求3所述的用于制造显示装置的设备，其中，所述激光照射部向所述冷却板照射激光，并且所述激光感测部感测由所述冷却板反射的激光。

5.如权利要求1所述的用于制造显示装置的设备，还包括：

控制部，所述控制部基于由所述激光感测部感测到的激光来分别分离出与所述掩模组件、所述显示衬底和所述磁体部对应的频率。

6.如权利要求5所述的用于制造显示装置的设备，其中，所述控制部通过与所述掩模组件对应的频率来辨别所述掩模组件是否变形。

7.如权利要求6所述的用于制造显示装置的设备，其中，所述控制部根据所述掩模组件是否变形来控制所述磁体部的电磁力。

8.如权利要求5所述的用于制造显示装置的设备，其中，所述控制部对由所述激光感测部感测到的激光进行傅立叶变换以分别分离出与所述掩模组件、所述显示衬底以及所述磁体部对应的频率。

9.如权利要求6所述的用于制造显示装置的设备，其中，所述控制部根据所述掩模组件是否变形来调整所述磁体部的位置。

10.如权利要求1所述的用于制造显示装置的设备，其中，所述掩模组件包括：

掩模框架；以及

多个掩模片，所述多个掩模片布置在所述掩模框架上并且彼此连接。