[发明专利]一种真空吸附载台

权利要求书

1.一种真空吸附载台，包括本体，所述本体的上表面设有多个第一吸附结构，其特征在于，所述本体内设有第一滑动通道，多个所述第一吸附结构与所述第一滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第一滑动通道内配合设置有第一滑动结构，所述第一滑动结构在所述第一滑动通道中分隔出密闭的第一通道段，所述第一通道段连接有第一真空通入管，所述第一滑动结构可沿所述第一滑动通道滑动，随着所述第一滑动结构的滑动，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构均连通；

每个所述第一吸附结构均包括两个吸附部，每个所述吸附部的吸附范围均与所述第一滑动通道的延伸方向垂直，由所述第一滑动通道的中间至两端，各个所述吸附部的吸附范围依次增大，所有所述吸附部吸附范围的一端平齐；

每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均与所述第一滑动通道中间截面两侧的对称位置连通；

所述第一滑动结构包括两个滑动部，两个所述滑动部分别位于所述第一滑动通道中间截面两侧的对称位置，两个所述滑动部中间为所述第一通道段，两个所述滑动部可互相远离或互相靠近，随着两个所述滑动部的互相远离，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均同时连通，随着两个所述滑动部的互相靠近，所述第一通道段可与每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均同时断开。

2.根据权利要求1所述的真空吸附载台，其特征在于，每个所述第一吸附结构的两个所述吸附部均相对于所述第一滑动通道的中间截面对称，所有所述吸附部沿所述第一滑动通道的延伸方向排列。

3.根据权利要求1所述的真空吸附载台，其特征在于，所述第一滑动通道位于所有所述吸附部吸附范围平齐的一端，所述本体的上表面对应每个所述第一吸附结构远离所述第一滑动通道的一端均设有第二吸附结构；

所述本体内还设有第二滑动通道，多个所述第二吸附结构与所述第二滑动通道延伸方向的不同位置连通，所述第二滑动通道内配合设置有第二滑动结构，所述第二滑动结构在所述第二滑动通道中分隔出密闭的第二通道段，所述第二通道段连接有第二真空通入管，所述第二滑动结构可沿所述第二滑动通道滑动，随着所述第二滑动结构的滑动，所述第二通道段可与多个所述第二吸附结构由最靠近所述第一滑动通道的所述第二吸附结构到最远离所述第一滑动通道的所述第二吸附结构依次连通。

4.根据权利要求3所述的真空吸附载台，其特征在于，每个所述第二吸附结构沿所述第一滑动通道延伸方向的吸附范围均与相应的所述第一吸附结构的两个所述吸附部之间的距离相等，且每个所述第二吸附结构均相对于所述第一滑动通道的中间截面对称。

5.根据权利要求3所述的真空吸附载台，其特征在于，所述第一滑动通道内沿其延伸方向设有双向螺杆，所述第一滑动通道内的两个滑动部与所述双向螺杆的两组螺纹一一对应配合连接，所述第二滑动结构包括一个滑动部，所述第二滑动通道内沿其延伸方向设有单向螺杆，所述第二滑动通道内的所述滑动部与所述单向螺杆配合连接，所述第一滑动通道和所述第二滑动通道的截面均为非圆形。

6.根据权利要求5所述的真空吸附载台，其特征在于，所述第一滑动通道和所述第二滑动通道的截面均为椭圆形。

7.根据权利要求5所述的真空吸附载台，其特征在于，所述双向螺杆和所述单向螺杆分别连接有伺服电机。

8.根据权利要求7所述的真空吸附载台，其特征在于，所述第一滑动通道和所述第二滑动通道内均设有检测装置，两个所述检测装置和两个所述伺服电机均与控制器连接，当所述检测装置检测到相应滑动通道内的所述滑动部滑动到极限位置时，所述控制器控制相应滑动通道内的所述伺服电机关闭。