[发明专利]一种高垄地膜的种植口覆盖结构

权利要求书

1.一种高垄地膜的种植口覆盖结构，包括地膜(1)，地膜种植口(3)，其特征在于，所述一种高垄地膜的种植口覆盖结构还包括种植口覆盖垫(2)，覆盖垫上层(4)，覆盖垫上层开孔(5)，覆盖垫下层(6)，覆盖垫下层开孔(7)，上下层连接弯管(8)，地膜种植口(3)位于地膜(1)中央，种植口覆盖垫(2)覆盖在地膜种植口(3)中的土壤的表面上，覆盖垫上层开孔(5)等间隔均匀分布在覆盖垫上层(4)，覆盖垫下层开孔(7)等间隔均匀分布在覆盖垫下层(6)，上下层连接弯管(8)的上端机械连接覆盖垫上层开孔(5)，上下层连接弯管(8)的下端机械连接覆盖垫下层开孔(7)，设覆盖垫上层开孔(5)及覆盖垫下层开孔(7)的直径均为D，D≥0.8厘米，上下层连接弯管(8)的上半部与覆盖垫上层(4)所夹的锐角值为A，上下层连接弯管(8)的下半部与覆盖垫下层(6)所夹的锐角值为A，覆盖垫上层(4)与覆盖垫下层(6)的相邻表面的距离为H，参数间关系满足H≥2Dcot A。

2.根据权利要求1所述的一种高垄地膜种植口覆盖结构，其特征在于，所述的一种地高垄膜种植口覆盖结构，在高温季节采用白色地膜(1)及种植口覆盖垫(2)，在低温季节采用黑色地膜(1)及种植口覆盖垫(2)。