[发明专利]一种垂向运动机构及光刻设备

权利要求书

1.一种垂向运动机构，其特征在于，包括：

驱动装置(1)，包括竖直设置的运动件(13)，所述运动件(13)的下端用于吸附掩模版，所述运动件(13)能带动所述掩模版在第一位置和第二位置间进行垂向运动，所述第一位置为所述掩模版在掩模台上的交接位置，所述第二位置为所述掩模版的垂向运动最高位置；

缓冲装置(3)，所述缓冲装置(3)被配置成当所述掩模版非期望地下落时，所述缓冲装置(3)向所述运动件(13)施加缓冲力，以防止所述掩模版刚性冲击所述掩模台；

所述掩模版还具有第三位置，所述第三位置为所述缓冲装置(3)的初始缓冲位置，且当所述掩模版处于第一位置和所述第三位置之间时，所述缓冲装置(3)均向所述运动件(13)施加缓冲力；

所述缓冲装置(3)包括：

第一弹性伸缩元件(31)，其下端与所述掩模台相对固定，所述运动件(13)能作用于所述第一弹性伸缩元件(31)的上端；

第二弹性伸缩元件(32)，其设置在所述第一弹性伸缩元件(31)的上方，且所述第二弹性伸缩元件(32)的下端与所述第一弹性伸缩元件(31)的上端连接，所述第一弹性伸缩元件(31)的刚度与所述第二弹性伸缩元件(32)的刚度不同；

当所述第一弹性伸缩元件(31)和所述第二弹性伸缩元件(32)中，刚性较小的一个压缩到最大可压缩程度时，所述掩模版处于第四位置，所述第四位置位于所述第一位置和所述第三位置之间，所述第四位置为所述运动件(13)带动所述掩模版自所述第二位置自由落体时，所述掩模版下落的最低位置；

当所述第一弹性伸缩元件(31)和所述第二弹性伸缩元件(32)中，刚性较大的一个压缩到最大可压缩程度时，所述掩模版处于第五位置，所述第五位置位于所述第一位置下方，且所述第五位置为所述运动件(13)能够带动所述掩模版所能到达的最低位置。

2.根据权利要求1所述的垂向运动机构，其特征在于，所述第二弹性伸缩元件(32)的上端连接有缓冲压块(33)，所述缓冲压块(33)的上端能与所述运动件(13)接触。

3.根据权利要求2所述的垂向运动机构，其特征在于，所述缓冲装置(3)还包括：

壳体(35)，所述壳体(35)开设有腔体，所述缓冲压块(33)为上端封闭、下端开口的套筒结构，所述缓冲压块(33)的下端伸入所述腔体内，并能相对所述腔体的腔壁上下滑动，所述壳体(35)与所述缓冲压块(33)合围形成有容纳腔，所述第一弹性伸缩元件(31)和所述第二弹性伸缩元件(32)均位于所述容纳腔内。

4.根据权利要求3所述的垂向运动机构，其特征在于，所述缓冲装置(3)还包括：

限位压板(34)，设置在所述第一弹性伸缩元件(31)和所述第二弹性伸缩元件(32)之间，所述限位压板(34)的下端与所述第一弹性伸缩元件(31)的上端连接，所述限位压板(34)的上端与所述第二弹性伸缩元件(32)的下端连接，所述腔体的下端开设有限位台阶，所述限位压板(34)的下端能与所限位台阶的上表面接触，所述缓冲压块(33)的下端能与所述限位压板(34)的上端或与所述限位台阶的上表面接触。

5.根据权利要求4所述的垂向运动机构，其特征在于，所述第一弹性伸缩元件(31)的刚度小于所述第二弹性伸缩元件(32)的刚度。

6.根据权利要求5所述的垂向运动机构，其特征在于，当所述限位压板(34)与所述限位台阶接触时，所述掩模版处于所述第四位置，当所述缓冲压块(33)与所述限位压板(34)或与所述限位台阶接触时，所述掩模版处于所述第五位置。

7.根据权利要求4所述的垂向运动机构，其特征在于，所述第一弹性伸缩元件(31)的刚度大于所述第二弹性伸缩元件(32)的刚度。

8.根据权利要求7所述的垂向运动机构，其特征在于，当所述缓冲压块(33)与所述限位压板(34)接触时，所述掩模版处于所述第四位置，当所述限位压板(34)与所述限位台阶接触时，所述掩模版处于第五位置，所述第五位置位于所述第一位置的下方。