[发明专利]一种镧铈镨钕钇稀土抛光粉及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 201810973245.0 申请日: 2018-08-24
公开(公告)号: CN109111855A 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 姜霁涛;史俊龙;牛娟娟;金玉培;蒋春虎;柴进忠;马相琴;雷美美;王保国;李成荣 申请(专利权)人: 甘肃稀土新材料股份有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心 62100 代理人: 马英
地址: 730922*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 抛光粉 钇稀土 镧铈镨 表面光洁度 稀土抛光粉 粒度分布 制备工艺 后玻璃 质量比 抛光 稀土
【说明书】:

一种镧铈镨钕钇稀土抛光粉,其成份按稀土质量比计,CeO2含量的比例占20~99.5%,Y2O3含量的比例占0.1%~60%,La2O3含量的比例占0~50%,Pr7O11含量的比例占0.1~4%,Nd2O3含量的比例占0.1~4%,氟的含量为TREO的0.05~20%。本发明的稀土抛光粉颗粒均匀、粒度分布窄,抛光后玻璃表面光洁度好。

技术领域

本发明涉及一种稀土抛光材料制备及应用技术领域,具体是一种镧铈镨钕钇稀土抛光粉及其制备工艺。

背景技术

在已有的专利文献中稀土抛光粉的制造原料主要为镧铈系列、镧铈镨系列、镧铈镨钕系列,纯铈系列,及部分掺杂铝、锆的稀土抛光粉,而在现有元素中掺杂钇元素的稀土抛光粉还未见报道。高纯度氧化钇在市场应用方面主要应用于透明陶瓷、荧光粉等光学材料领域,对市场需求小。低纯度的粗钇不仅价值低而且无法形成市场销售,造成大量资源积压。在稀土抛光粉中添加钇元素不经能够改善其研磨性能,提高循环使用效率,而且能够将资源充分利用。

通过查阅文献及相关资料,并对各种粒径的稀土抛光粉对比发现,抛光粉的粒度大小及分布对抛光粉的切削力影响甚微,但在抛光过程中对玻璃表面的光洁度影响较大,粒度小且分布窄的稀土抛光粉抛光后玻璃表面划痕较少且表面光洁度高,而抛光粉的粒度分布与抛光粉前驱体粒度有显著的依存关系。通过添加稀土元素钇,可有效减少抛光粉的粒度分布范围,并降低抛光粉的松装比重,从而提高浆料的有效研磨成份,达到提高抛光粉的切削力和改善玻璃表面光洁度的目的。

发明内容

本发明提供一种镧铈镨钕钇稀土抛光粉及其制备工艺,制得的稀土抛光粉松装比重小、悬浮性好、切削速度快,玻璃表面光洁度好。

本发明所采用的技术方案为:

一种镧铈镨钕钇稀土抛光粉,其特征在于:其成份按稀土质量比计,CeO2含量的比例占20~99.5%,Y2O3含量的比例占0.1%~60%,La2O3含量的比例占0~50%,Pr7O11含量的比例占0.1~4%,Nd2O3含量的比例占0.1~4%,氟的含量为TREO的0.05~20%。

一种镧铈镨钕钇稀土抛光粉的制备工艺,具体步骤如下:

a、制备稀土抛光粉前驱体;

b、对上述前驱体进行氟化,控制氟的含量为TREO的0.05~20%,氟化后烘干煅烧;

c、将煅烧产物破碎分级,并加入助剂即得所述的镧铈镨钕钇稀土抛光粉。

本发明以含钇的稀土前驱体为主要原料,在稀土原料中引入了钇元素使所得稀土抛光粉(稀土总量TREO在80wt%以上),粒度均匀分布窄,松比小,悬浮性好,抛光后玻璃表面光洁度好。

附图说明

图1为本发明实施例4(最佳工艺)的粒度分布图;

图2为本发明实施例4(最佳工艺)的SEM图;

通过该 SEM图可以看出,本发明所制备的稀土抛光粉形貌均匀,钇和其它稀土元素形成均匀度很高的晶粒,图1可以看出,其粒度分布图只有一个窄峰;相关文献报道称,分布窄的稀土抛光粉抛光后玻璃表面划痕较少,且能够改善玻璃表面光洁度。本发明在现有稀土抛光粉中添加稀土钇,达到控制粉体形貌,增强粉体使用性能的目的。

具体实施方式

实施例1

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