[发明专利]一种快速筛选仿钻的方法在审
申请号: | 201810930251.8 | 申请日: | 2018-08-15 |
公开(公告)号: | CN108956576A | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 宋光均;蒋之辉;吴剑峰;黄振威;秦超;姚少浩;饶福原;初天伟;杨兴忠;何俊杰 | 申请(专利权)人: | 广州标旗光电科技发展股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G01N21/87 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 肖宇扬;付静 |
地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波长 快速筛选 被测样品 光源辐射 光源激发 对设备 光成像 入射光 检测 筛查 发光 激发 | ||
1.一种快速筛选仿钻的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
将含有400-900nm范围内波长的入射光同时照射到大面积的被测区域,该被测区域可放置大量被测样品,入射光用于激发被测样品,将入射光激发而发出的光通过滤光组件滤出含有860nm到1100nm范围内波长的光,将所述滤出的光导入成像系统,如果成像系统显示发光的亮点,将发光的亮点对应的被测样品怀疑为仿钻。
2.如权利要求1所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:经入射光激发而发出的光通过滤光组件时,滤光组件将具有入射光波长的光滤除,只有被测样品发出的860-1100nm内的部分波长或全部波长的光通过滤光组件,到达成像系统进行检测。
3.如权利要求1所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述入射光为含有600nm-860nm波长范围内的部分波长的光和/或含有600nm-860nm波长范围内全部波长的光。
4.如权利要求1所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述入射光为含405nm、450nm、532nm、630nm、650nm、680nm、785nm,808nm、830nm或850nm中的波长的光。
5.如权利要求1所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述入射光为2个或多个不同的光源发射出的不同波长的光,同时照射到被测量样品上进行同时激发。
6.如权利要求3所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述入射光为含785nm或808nm中的某一波长的光。
7.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述入射光为LED光或元素灯所发的光。
8.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述入射光为激光。
9.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述入射光通过光学组件形成一定面积的光斑,所述入射光同时照射到所述被测区域的面积不小于4平方厘米。
10.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:需筛选的所述仿钻为锆石,所述锆石经所述入射光激发发出的光为荧光,且集中在860-920nm波长范围内。
11.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:需筛选的所述仿钻为莫桑石(合成碳化硅),所述莫桑石(合成碳化硅)经所述入射光激发发出的光为荧光,且集中在900-1080nm波长范围内。
12.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述成像系统的感光元件为面阵分布,感光元件为CCD或CMOS,所述成像系统能对所述入射光照射到的区域进行成像或检测,成像系统为黑白成像系统,成像系统成的像是影像或者录像,所述成像系统通过调节镜头位置,可对不同高度的样品进行成像,所述成像系统对860-1100nm内的任意波长的光进行感光成像或检测。
13.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述被测量区域具有标识图,在滤光组件将860-1100nm内的部分波长或全部波长滤出到成像系统成像,另外在移除滤光组件的情况下增加照明系统对样品分布情况进行成像,然后将两次成像进行叠加,可快速定位出仿钻的具体位置。
14.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:所述被测量区域具有标识图,采用含860-1100nm内任意波长的照明光源对被测量区域进行照明成像,获得被测样品的分布位置。
15.如权利要求1-5中任一项所述的快速筛选仿钻的方法,其特征在于:如果成像系统显示了发光的亮点,可以通过图像处理的方法将发光的亮点用更显眼的方式进行标记,将颜色转为红色或其它颜色。
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