[发明专利]一种红外带通滤波器

说明书

本发明涉及一种红外带通滤波器，红外带通滤波器具有第一多层膜结构，第一多层膜结构包括多个Si:NH层及多个低折射率层，Si:NH层在800nm至1100nm的波长范围内的折射率大于3.5及其消光系数小于0.0002；多个低折射率层与多个Si:NH层相互堆叠，低折射率层在800nm至1100nm的波长范围内的折射率小于3；其中Si:NH层的折射率与低折射率层的折射率的差值大于0.5。本发明的红外带通滤波器具有800nm与1100nm的波长范围内的通带，在入射角从0度改变至30度时，通带的中心波长的偏移幅度小于12nm，本发明的红外带通滤波器应用于三维成像系统时可提升三维影像解析能力。

技术领域

本发明涉及一种光学滤波的技术领域，尤其涉及一种红外带通滤波器。

背景技术

目前红外带通滤波器是将于光学基板的一表面形成多层膜结构，其另一表面形成多层抗反射层，多层膜结构通过多个高折射率层及多个低折射率层交互沉积而成，一般高折射率层的材料选用Ti₃O₅、Ta₂O₅、ZrO₂、Nb₂O₅及TiO₂中的一者，一般低折射率层的材料选用MgF₂及SiO₂中的一者。红外带通滤波器具有在800nm与1100nm的波长范围内的通带，在入射角从0度改变至30度时，通带的中心波长的偏移幅度为31nm与34nm之间，如此角度改变时通带的中心波长偏移较大，导致红外带通滤波器应用于三维成像系统，于大角度收光时发生无法识别或识别失败的问题。

发明内容

针对现有技术中的不足，本发明的目的是提供一种红外带通滤波器。

为了解决上述技术问题，本发明揭示了一种红外带通滤波器，其具有第一多层膜结构，第一多层膜结构包括：多个Si:NH层，其在800nm至1100nm的波长范围内的折射率大于3.5及其消光系数小于0.0002；以及多个低折射率层，其与多个Si:NH层相互堆叠，其在800nm至1100nm的波长范围内的折射率小於3；其中Si:NH层的折射率与低折射率层的折射率的差值大于0.5。

根据本发明的一实施方式，上述红外带通滤波器更包括基板，基板设置于第一多层膜结构。

根据本发明的一实施方式，上述红外带通滤波器更包括第二多层膜结构，第二多层膜结构设置于基板，并与第一多层膜结构相对。

根据本发明的一实施方式，上述第二多层膜结构包括：多个Si:NH层，其在800nm至1100nm的波长范围内的折射率大于3.5及其消光系数小于0.0002；以及多个低折射率层，其与多个所述Si:NH层相互堆叠，其在800nm至1100nm的波长范围内的折射率小於3；其中所述Si:NH层的折射率与所述低折射率层的折射率的差值大于0.5。

根据本发明的一实施方式，上述红外带通滤波器具有与800nm至1100nm的波长范围部份重叠的通带，所述通带的中心波长位于800nm与1100nm的波长范围内，所述通带外具有在400nm至1100nm的波长范围内大于OD5的阻挡位凖。

根据本发明的一实施方式，上述红外带通滤波器具有与800nm至1100nm的波长范围部份重叠的通带，通带的中心波长位于800nm与1100nm的波长范围内。

根据本发明的一实施方式，上述在入射角从0度改变至30度时，通带的中心波长的偏移幅度小于12nm。

根据本发明的一实施方式，上述Si:NH层的层数与低折射率层的层数的总和小于39层。

根据本发明的一实施方式，上述多个Si:NH层及多个低折射率层的总厚度小于4.5um。

根据本发明的一实施方式，上述红外带通滤波器的硬度大于莫氏硬度7。