[发明专利]一种流体处理设备

权利要求书

1.一种流体处理设备，包括流体流动管道(1)，所述流体流动管道(1)具有限定第一和第二流动通道(111、121)以及分别为每个第一和第二流动通道(111、121)各限定一个流体进口和流体出口的可发射太赫兹波及磁场的第一和第二部分；

第一和第二流动通道(111、121)用于给流体提供流动通路并使流经其中的流体受到太赫兹波及磁场的处理，第一流动通道(111)的第一出口(113)与第二流动通道(121)的第二进口(122)物理连通。

2.根据权利要求1所述的流体处理设备，其特征在于：

所述第一流动通道(111)与第二流动通道(121)为空心导管形成曲折回路，所述磁场由位于第二流动通道(121)表面的磁块(3)产生。

3.根据权利要求1所述的流体处理设备，其特征在于：

所述流体流动通道(1)由空心导管弯折成交叉叠加的U型管与S型管以形成交叉立体回路，所述磁块(3)设于S型管表面。

4.根据权利要求3所述的流体处理设备，其特征在于：

所述第一流动通道(111)由第一空心导管的一端在流体流动管道(1)所处空间的第一竖直面弯曲形成倒U型回路，并保持延伸趋势在与第一竖直面相邻的第二竖直面以及与第二竖直面相邻的第三竖直面上分别弯曲对应形成正U型回路和倒U型回路共同构成，第一进口(112)和第一出口(113)分别限定于第一空心导管的两端。

5.根据权利要求4所述的流体处理设备，其特征在于：

所述第二流动通道(121)由第二空心导管的一端绕过所述第二竖直面的U型回路根部上方在平行于第三竖直面的平面上弯折形成自下而上的第一S型回路，并保持延伸趋势绕过第三竖直面的U型回路根部上方并自上而下依次绕过第一S型回路的每一管道形成第二S型回路共同构成，第二进口(121)和第二出口(123)分别限定于第二空心导管的两端。

6.根据权利要求5所述的流体处理设备，其特征在于：

所述磁块(3)位于第一S型回路与第二S型回路的交叉叠加管道之间。

7.根据权利要求5所述的流体处理设备，其特征在于：

所述第一S型回路所处平面与第二S型回路所处平面相互垂直，第一S型回路与第二S型回路的交叉管道表面呈扁平状设计，所述磁块(3)位于所述扁平状位置处。

8.根据权利要求1所述的流体处理设备，其特征在于：

所述流体处理设备还包括用于容纳流体流动管道(1)的外壳(2)，所述第一流动通道(111)的第一进口(112)和第一出口(113)与第二流动通道(121)的第二进口(122)和第二出口(123)由所述外壳(2)的一表面(21)伸出后并排布置。

9.根据权利要求8所述的流体处理设备，其特征在于：

所述并排布置的进出口通过卡套式管接头(4)与外接管道相连；

所述卡套式管接头(4)包括一端与进/出口套接另一端旋拧螺母(42)的接头体(41)，所述接头体(41)与螺母(42)间设有第一环形卡套(43)，所述第一环形卡套(43)一端与接头体(41)的另一端内壁套接，另一端通过第二环形卡套(44)与螺母(42)装配固定。

10.根据权利要求1所述的流体处理设备，其特征在于：

所述外壳(2)的所述一表面(21)外设有盖板(22)，所述盖板(22)上对应设有可供所述并排布置的进出口穿过以进行固定的通孔(221)；

所述外壳(2)底面通过螺钉与呈弧形曲面的底板(5)固定相连。