[发明专利]一种转印板清洗装置在审
申请号: | 201810826336.1 | 申请日: | 2018-07-25 |
公开(公告)号: | CN108906735A | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 胡聪 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B1/00;B08B3/12;F26B21/00;B41F35/00 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转印板 擦拭机构 超声波清洗机构 喷头 吹风机构 喷淋部件 喷淋机构 清洗装置 擦拭件 清洗 干燥效果 横向设置 清洗效果 输运机构 竖向设置 液体残留 液体滞留 喷淋槽 平躺式 悬挂式 印刷 | ||
本发明提供一种转印板清洗装置,包括喷淋机构、擦拭机构、超声波清洗机构、吹风机构以及输运机构;所述喷淋机构包括喷淋槽和喷淋部件,所述擦拭机构包括擦拭件;其中,所述喷淋部件包括第一喷头,所述第一喷头沿竖向设置,所述擦拭件横向设置。将悬挂式清洗改为平躺式清洗,防止液体滞留在转印板底部,同时通过擦拭机构、超声波清洗机构以及吹风机构结合,达到更好的清洗效果和干燥效果,防止液体残留在转印板上影响后续PI液印刷的效果。
技术领域
本发明涉及转印板清洗技术领域,尤其涉及一种转印板清洗装置。
背景技术
在液晶显示面板的生产过程中,为了使液晶分子能够正确的取向,需要在阵列基板和彩膜基板(CF)的表面涂覆一层聚酰亚胺(PI)膜,然后在PI膜上进行摩擦处理,以实现液晶分子的取向。在阵列基板和彩膜基板上涂覆PI膜一般采用高效的转印板(APR板)转印技术。
转印板在转印完毕后,转印板上通常会残留一定量的PI液,这使的转印板需要进行清洗后才能再次用于转印。现有技术中,对转印板进行清洗时,一般讲转印板垂直放置在清洗槽中,利用清洗溶剂对转印板进行清洗,以去除残留在转印板上的PI液。
但是,由于转印板是悬挂式清洗,导致有残余清洗溶剂滞留在APR板底部,从而影响后续PI液印刷的效果。
发明内容
本发明提供一种转印板清洗装置,以解决转印板清洗后,有残余清洗溶剂滞留在APR板底部,从而影响后续PI液印刷效果的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
一种转印板清洗装置,包括:
喷淋机构,其包括对转印板进行喷淋清洗的喷淋部件;
擦拭机构,其包括用于对经过喷淋清洗后的转印板进行擦拭的擦拭件;
其中,所述喷淋部件包括第一喷头,所述第一喷头沿竖向设置,所述擦拭件横向设置。
优选的,所述第一喷头朝上设置或朝下设置。
优选的,所述喷淋机构还包括喷淋槽,所述第一喷头设置于所述喷淋槽中。
优选的,所述喷淋机构还包括挡液板,所述挡液板与所述喷淋槽之间具有容纳转印板的间隙。
优选的,所述喷淋部件还包括设置于挡液板上的第二喷头,所述第二喷头朝下设置或朝上设置。
优选的,所述擦拭件包括沿水平设置以用于擦拭转印板的第一滚刷。
优选的,所述擦拭件还包括与第一滚刷并列设置且位于第一滚刷上方或下方的第二滚刷。
优选的,所述转印板清洗装置还包括对转印板进行超声波清洗的超声波清洗机构。
优选的,所述转印板清洗装置还包括吹风机构,所述吹风机构包括倾斜设置以去除转印板上残留液体的吹风部件。
优选的,所述清洗装置还包括输运机构,所述输运机构包括支撑臂以及输运支撑臂的输运机,所述支撑臂沿竖向设置。
本发明的有益效果为:将悬挂式清洗改为平躺式清洗,防止液体滞留在转印板底部,同时通过擦拭机构、超声波清洗机构以及吹风机构结合,达到更好的清洗效果和干燥效果,防止液体残留在转印板上影响后续PI液印刷的效果。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明具体实施方式中清洗装置的结构示意图;
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