[发明专利]一种双气缸推瓦装置

说明书

一种双气缸推瓦装置，包括底板、第一导向板、传感器支架Ⅱ、第一推瓦杆、第一气缸、第二导向板、第三导向板、压板、第四导向板、第二推瓦杆和第二气缸；第一导向板上设有压板支架Ⅰ和传感器支座Ⅰ，传感器支座Ⅰ上设有传感器支架Ⅰ、检测片Ⅰ；第二导向板与第三导向板之间设有磁瓦通道；第一气缸的活塞杆与第一推瓦杆相连，第一推瓦杆位于第一导向板与第二导向板之间；第四导向板上设有压板支架Ⅱ和传感器支座Ⅱ，传感器支座Ⅱ上设有传感器支架Ⅲ、检测片Ⅱ；第二气缸的活塞杆与第二推瓦杆相连，第二推瓦杆位于第四导向板与第三导向板之间。利用本发明，可实现高压水清洗设备清洗过程中不会出现磁瓦拱起和叠加现象，磁瓦清洗效果好。

技术领域

本发明涉及一种双气缸推瓦装置。

背景技术

现有磁瓦在加工过程中需要进行清洗，其中，相对于超声波清洗等方式，采用高压水冲洗，清洗效果更佳。然而，现有磁瓦经输送机构送出后，是依靠相邻磁瓦之间的相互推力作用进入高压水冲洗设备进行清洗，其存在的缺陷是：冲洗过程中会出现磁瓦拱起和叠加的现象，进而影响清洗效果。

因此，目前亟需一种能避免清洗过程中出现磁瓦拱起和叠加现象，有利于对磁瓦进行清洗的装置。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是，提供一种能避免清洗过程中出现磁瓦拱起和叠加现象，有利于对磁瓦进行清洗的双气缸推瓦装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种双气缸推瓦装置，包括底板、第一导向板、传感器支架Ⅱ、第一推瓦杆、第一气缸、第二导向板、第三导向板、压板、第四导向板、第二推瓦杆和第二气缸；

所述第一导向板固定在底板上，所述第一导向板上设有压板支架Ⅰ和传感器支座Ⅰ，所述压板支架Ⅰ与压板相连，所述传感器支座Ⅰ上设有传感器支架Ⅰ、检测片Ⅰ，所述传感器支架Ⅰ上设有传感器Ⅰ；

所述第二导向板和第三导向板固定在底板上，所述第二导向板与第三导向板之间设有磁瓦通道；

所述第一气缸固定在底板上，所述第一气缸的活塞杆与第一推瓦杆相连，所述第一推瓦杆位于第一导向板与第二导向板之间；

所述传感器支架Ⅱ固定在底板上，位于第一推瓦杆旁边，所述传感器支架Ⅱ上安装有传感器Ⅱ；

所述第四导向板固定在底板上，所述第四导向板上设有压板支架Ⅱ和传感器支座Ⅱ，所述压板支架Ⅱ与压板相连，所述传感器支座Ⅱ上设有传感器支架Ⅲ、检测片Ⅱ，所述传感器支架Ⅲ上设有传感器Ⅲ；

所述第二气缸固定在底板上，所述第二气缸的活塞杆与第二推瓦杆相连，所述第二推瓦杆位于第四导向板与第三导向板之间。

进一步，所述第一导向板通过内六角螺栓固定在底板上。

进一步，所述第二导向板和第三导向板通过内六角螺栓固定在底板上。

进一步，所述第一气缸通过十字头螺栓固定在底板上。

进一步，所述传感器支架Ⅱ通过内六角螺栓固定在底板上。

进一步，所述第四导向板通过内六角螺栓固定在底板上。

研究实践表明，利用本发明之双气缸推瓦装置，可实现高压水清洗设备清洗过程中不会出现磁瓦拱起和叠加现象，磁瓦清洗效果好。

本发明结构简单、操作简便，且适应性好，能满足加工生产需求，有利于企业的发展。

附图说明

图1 为本发明实施例的主视图；

图2 为图1所示实施例的俯视图；

图3 为图1所示实施例的侧视图；

图4 为图1所示实施例的立体结构示意图；