[发明专利]一种高难废水处理设备

说明书

本发明提供一种高难废水处理设备，其特征在于，包括废水存储罐、废水处理装置，所述废水处理装置包括密闭反应容器、贴敷在容器内壁的催化剂、容器顶部的紫外灯、设置于密闭反应容器底部的储水槽以及放置于储水槽底部的铁碳填料，所述密闭反应容器顶部设置进液口与进气口，所述进液口通过软管与原水存储罐相连，所述进液口处设置多个喷雾喷头，所述密闭反应容器底部设置回流口，通过设置回流软管与废水存储罐相连，所述密闭反应容器一侧设置出气烟囱，所述密闭反应容器璧两侧设置多个喷雾入口。设备结构紧凑，不需要单独的臭氧设备，双氧水的利用率极高，一次能耗，实现多种作用协同降解废水中的有机物，处理效果好，无二次污染。

技术领域

本发明涉及废水处理设备，属于环境化工领域，具体涉及一种高难废水处理设备。

背景技术

随着石油化工、塑料化工、电子化工等化学工业的迅速发展，产生有毒、有害、难降解的工业有机废水，这些工业废水处理不当会给生态环境和人类健康带来极大的危害，尤其是含有高浓度有机物的废水种类和废水量日益增多，对水体的污染愈发严重，威胁人们健康安全，破坏环境。高浓度有机废水多指COD浓度在2000mg/L以上的废水，其主要具备以下特点：首先，有机物浓度高，一般COD浓度超过2000mg/L，甚至可达几万甚至几十万mg/L，同时BOD较低；其次，成分复杂，难降解废水中多含有芳香族化合物、杂环化合物以及硫化物、氮化物、重金属和有毒有害物质。

目前，处理高浓度有机废水主要采用混凝沉淀法、活性炭吸附法、生物方法、氧化法等；混凝沉淀法应用广泛，但处理效果不彻底，只能作为高色度废水的预处理工艺来应用，同时混凝沉降后产生的污泥会造成二次污染，污泥处理难度高，费用大；活性炭吸附法这种方法工艺比较简单，但活性碳吸附寿命短，很快就会达到吸附饱和，因此需要频繁更换活性炭或者高温再生活性炭，造成能耗、成本高，且会产生二次污染；生物法周期较长，氧化法是目前研究较多的方法，如光催化氧化法，往往只研究了紫外光催化氧化应用、纳米TiO₂光催化降解等作用原理或者实验，没有把这些作用的协同效应进行利用或者实验，从而造成了，现有技术工艺复杂、效率低、占地面积大、处理成本高等缺点，如专利CN 104891727 B公开了一种能够对光催化剂进行循环利用的处理效率高的工业废水光催化反应处理系统，解决了现有的光催化对污水进行处理过程中所存在的空气、光、水和光催化剂四者之间接触不充分，能耗高，光催化剂不能回收的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种高难废水处理设备，它解决了现有的处理技术对高难废水的降解能力有限且工艺复杂的问题，同时，使用一次电能的消耗，降解两次甚至两次以上的废水中的污染物(总有机碳、氨氮等)，解决现有设备能耗高，处理效率低，使用维护复杂的问题。

为解决上述问题，本发明所采用的技术方案是：一种高难废水处理设备，其特征在于，包括废水存储罐、废水处理装置，所述废水处理装置包括密闭反应容器、贴敷在容器内壁的催化剂、容器顶部的紫外灯、设置于密闭反应容器底部的储水槽以及放置于储水槽底部的铁碳填料，所述密闭反应容器顶部设置进液口与进气口，所述进液口通过软管与废水存储罐相连，所述进液口处设置喷雾喷头，所述密闭反应容器底部设置回流口，通过设置回流软管与废水存储罐相连，所述密闭反应容器一侧设置出气烟囱，所述密闭反应容器璧两侧设置多个喷雾入口。

所述紫外灯为臭氧型紫外灯，所述紫外灯设置为多根，所述紫外灯产生的波长为185nm和254nm；185nm波长的紫外线与空气中的氧气反应生成臭氧和羟基自由基，臭氧和羟基自由基对有机物具有极强的氧化作用。

所述喷雾喷头的喷淋角度为25°-80°，所述喷雾喷头设置为多个，根据反应腔体的大小调整喷淋角度和喷雾喷头数量，以保证所产生的喷雾可以覆盖整个腔体为适宜，所述喷雾喷头产生的废水喷雾粒径0.05-0.5毫米，产生的喷雾存在紫外灯的周围，使得液滴的表面积远远大于液体水的表面积，增加各种反应(水滴吸引紫外光、水滴与臭氧、羟基自由基等)的机会；紫外、臭氧、羟基自由基、需要降解的有机物同时存在于反应容器内，因此，物质运动的行程最短，损耗最少。