[发明专利]一种具有光限幅性能的VO2有效

专利信息
申请号: 201810741672.6 申请日: 2018-07-06
公开(公告)号: CN108950492B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 田野;曹雪;罗飞;刘大博 申请(专利权)人: 中国航发北京航空材料研究院
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/18;C23C14/58;B05D7/24;B05D3/04
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 李建英
地址: 100095 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 有光 限幅 性能 vo base sub
【权利要求书】:

1.一种具有光限幅性能的VO2复合薄膜的制备方法,其特征在于该方法包括下述步骤:

1)以金属钒靶作为溅射源,在氩气条件下在洁净石英衬底上溅射200nm厚的金属V膜,衬底温度保持在200℃,溅射时间为60min,溅射功率为150W;

2)将溅射有V膜的基片放置在管式炉中,通入氮氧混合气进行退火,其中氮气与氧气的比例是10:1,退火温度为480℃,退火时间60min,冷却至室温后取出;

3)将50ml无水乙醇,7ml去离子水,7ml浓氨水混合,搅拌均匀得到反应溶液;在40℃恒温水浴中,将5~20ml正硅酸乙酯缓慢滴加至上述溶液中,搅拌反应30min,反应24h;反应完毕后用无水乙醇反复离心,洗涤,再经超声分散即得到SiO2微球溶液;

4)利用旋涂仪将上述SiO2微球溶液均匀涂覆于步骤2)制得的薄膜表面,具体参数为先进行低速旋涂,速度为300转/分钟,旋涂时间10s,再进行高速旋涂,速度为1000转/分钟,旋涂时间30s,随后在空气下进行150℃热处理1h定型成膜;

5)以Au靶或Ag靶作为溅射源,在氩气条件下在步骤4)制得的薄膜上溅射Au膜或Ag膜,衬底温度保持在150℃,溅射时间为2min,溅射功率为50W,即得到所需的VO2复合薄膜。

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