[发明专利]一种氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置有效

专利信息
申请号: 201810725889.8 申请日: 2018-07-04
公开(公告)号: CN108788040B 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 余建波;杨帆;张裕嘉;孔洋;刘亮;李霞;任忠鸣 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: B22D11/116 分类号: B22D11/116;B22D11/115;C23C14/34
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 程华
地址: 200000*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 连续铸造 固定架 结晶器 高纯金属 氢等离子 驱动辊 水冷辊 熔炼 啮合 熔化 电磁软接触 活动连接有 结晶器外壁 单向转动 电极装置 对称设置 感应线圈 熔化金属 输送装置 送料装置 反应槽 高纯度 溅射靶 金属靶 斜上方 引锭杆 源气体 棒状 多辊 取向 熔体 生产 缠绕 精炼
【权利要求书】:

1.一种氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置,其特征在于:包括两个对称设置的固定架,两个所述固定架之间活动连接有多个水冷辊和驱动辊,所述水冷辊位于所述驱动辊斜上方,且与所述驱动辊啮合;所述固定架下方连接有结晶器,所述结晶器外壁缠绕有感应线圈,所述结晶器下方连接有引锭杆;多个所述水冷辊成“V”字形设置于所述结晶器上方;所述固定架上方安装有送料装置、源气体输送装置和电极装置;所述引锭杆外套设有水冷套,所述水冷套内部中空,且一侧的上部连接有进水口,另一侧的下部连接有出水口。

2.根据权利要求1所述的氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置,其特征在于:所述结晶器侧壁由均匀分割的24瓣空心结构组成,每瓣空心结构内均设置有一个通水管,且相邻两瓣空心结构之间填充有绝缘材料。

3.根据权利要求1所述的氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置,其特征在于:所述固定架为矩形结构,中间开设有下凹的倒梯形反应槽,所述水冷辊均匀设置于所述反应槽两端。

4.根据权利要求1所述的氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置,其特征在于:所述水冷辊内部中空,一端连接有进水管,另一端连接有出水管。

5.根据权利要求1所述的氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置,其特征在于:所述源气体输送装置内输送有氢氩混合气。

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