[发明专利]导电膜结构及其制作方法、触控面板及显示屏

说明书

本发明提供一种导电膜结构及其制作方法、触控面板及显示屏。在该导电膜结构中，通过第一增透膜层将总的纳米金属线层分为至少两层纳米金属线层，每层纳米金属线层相对于总的纳米金属线层来说其厚度减薄，从而降低了纳米金属线层的反射光，最终降低了导电膜结构的雾度。并且，通过所述第一增透膜层的设置，增加了透射光，进一步降低了纳米金属线层的反射光，从而降低导电膜结构的雾度。

技术领域

本发明涉及触控技术领域，具体涉及一种导电膜结构及其制作方法、触控面板及显示屏。

背景技术

触控设备因其便于操作、成像效果好、功能多元化等优点逐渐受到电子通讯行业的青睐，并广泛应用于资讯系统设备、家电设备、通讯设备、个人便携设备等产品上。而伴随近年来触控面板在通讯行业的迅速崛起，特别是在手机通讯行业的蓬勃发展，触控面板一举成为现今成像显示设备的首选产品。使用率最高的触控面板主要是电阻式触控面板和电容式触控面板，但是使用者出于可控性，易用性和表面外观的考虑，大多会选用电容式触控面板作为其最佳首选设备。

在传统智能手机的电容式触控面板中，触控电极的材料通常为氧化铟锡(简称为ITO)。ITO的透光率很高，导电性能较好。但随着触控面板尺寸的逐步增大，特别是应用于15寸以上的面板时，ITO的缺陷越来越突出，其中最明显的缺陷就是ITO的面电阻过大，价格昂贵，无法保证大尺寸触控面板良好的导电性能与足够的灵敏度，也无法适用于电子产品不断低价化的发展趋势。

正因如此，产业界一直在致力于开发ITO的替代材料，其中纳米银线(silver nanowires，简称SNW)作为一种新兴材料开始替代ITO成为优选的导电材料。纳米银线具有银优良的导电性，同时由于其纳米级别的尺寸效应，使得其具有优异的透光性与耐曲挠性，因此可用作替代ITO作为触控电极的材料，实现基于纳米银线的触控面板。

然而，纳米银线本身存在雾度现象，所谓雾度是指由于导电薄膜中的纳米银线表面光漫射造成的云雾状或浑浊的外观。屏幕的雾度问题会导致在室外场景光线照射的情况下，屏幕反射光强烈，严重的时候会使得用户看不清屏幕，这也成为业界亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种导电膜结构及其制作方法、触控面板及显示屏，降低纳米金属线层的反光，从而降低导电膜结构的雾度。

为实现上述目的，本发明提供一种导电膜结构，包括：

层叠设置的至少两层纳米金属线层；

设置在相邻两层纳米金属线层之间的第一增透膜层，所述第一增透膜层中形成有多个通孔；所述相邻两层纳米金属线层通过所述通孔导通。

可选地，所述导电膜结构包括2-6层纳米金属线层；任意相邻两层纳米金属线层之间均设置有所述第一增透膜层。

可选地，所述导电膜结构的总厚度为10nm～200nm。

可选地，每层所述第一增透膜层的折射率均介于1.0～1.5之间。

可选地，每层所述第一增透膜层的厚度相当于四分之一波片的厚度。

可选地，所有的纳米金属线层的材质均为纳米银线，所有的增透膜层的材质均为氧化硅。

相应的，本发明还提供一种导电膜结构的制作方法，包括：

形成第一纳米金属线层；

形成第一增透膜层，所述第一增透膜层覆盖所述第一纳米金属线层；

形成多个通孔，所述通孔位于所述第一增透膜层中且暴露所述第一纳米金属线层；

形成第二纳米金属线层，所述第二纳米金属线层覆盖所述第一增透膜层，并通过所述通孔与所述第一纳米金属线层导通。

相应的，本发明还提供一种触控面板，包括：