[发明专利]一种自清洗式纳米胶体射流抛光装置

权利要求书

1.一种自清洗式纳米胶体射流抛光装置，其特征在于，它包括纳米胶体容器(1)、第一管路(2)、第一两位三通控制阀(3)、计量式柱塞泵(4)、第二管路(5)、压力表(6)、第三管路(7)、增压蓄能器(8)、第四管路(9)、支架(10)、固定装置(11)、第一轴向导轨(12)、龙门架(13)、喷嘴(14)、抛光槽(15)、待抛光元件(16)、夹具(17)、龙门机床底座(18)、第二轴向导轨(19)、工作台(20)、第五管路(21)、第六管路(22)、清洗装置(23)、第一换流阀(24)，第二两位三通控制阀(25)、第二换流阀(26)、第七管路(27)，抬升装置(28)、激光传感器(29)、阀门控制装置(31)、抛光槽出口(32)和第三轴向导轨(33)；

所述纳米胶体容器(1)具有两个密封口，所述第一管路(2)与纳米胶体容器(1)的一个密封口连接，所述密封口直径大于第一管路(2)直径；所述清洗装置(23)经第七管路(27)连接至设置在第一管路(2)上的第一两位三通控制阀(3)；第一管路(2)的另一端依次经第二管路(5)、第三管路(7)、第四管路(9)与设置在抛光槽(15)上方的喷嘴(14)连接；所述第五管路(21)与纳米胶体容器(1)的另一密封口相连，密封口直径大于管路直径；所述第五管路(21)的另一端与抛光槽(15)的抛光槽出口(32)连接；所述第六管路(22)与清洗装置(23)的密封口连接；所述第七管路(27)与清洗装置(23)的另一密封口连接；所述第六管路(22)的另一端经设置在第五管路(21)上的第二两位三通控制阀(25)与第五管路(21)连接；

所述计量式柱塞泵(4)设置在第一管路(2)与第二管路(5)之间的通路上；

所述压力表(6)设置在第二管路(5)与第三管路(7)之间的通路上；

所述增压蓄能器(8)设置在第三管路(7)与第四管路(9)之间的通路上，用于消除计量式柱塞泵(4)对液流的影响，稳定液流，使液流连续，同时提升喷射液流的压力；

所述喷嘴(14)通过固定装置(11)固接在支架(10)上，所述支架(10)与可移动第三轴向导轨(33)固定连接，所述第三轴向导轨(33)与第一轴向导轨(12)活动连接，所述第一轴向导轨(12)与龙门架(13)固定连接，以实现喷嘴(14)可随第三轴向导轨(33)上下移动；

所述夹具(17)底端贯穿抛光槽(15)与工作台(20)固定连接，夹具(17)上端位于抛光槽(15)中，抛光槽(15)底部与夹具(17)接口处采用橡胶密封，所述工作台(20)与安装在龙门架底座(18)上的可移动第二轴向导轨(19)固定连接，以实现抛光槽(15)可随第二轴向导轨(19)移动；

所述第一换流阀(24)安装在第六管路(22)上；所述第二换流阀(26)安装在第七管路(27)上；

所述第一管路(2)和纳米胶体容器(1)的连接端、第七管路(27)与清洗装置(23)的连接端均设有抬升装置(28)，用于提升第一管路(2)与纳米胶体容器(1)的连接端，以及第七管路(27)与清洗装置(23)的连接端；

所述第一两位三通控制阀(3)、第二两位三通控制阀(25)、第一换流阀(24)、第二换流阀(26)中均设有阀门控制装置(31)，以控制通过阀门的液体流向，所述换流阀(24、26)、两位三通控制阀(3、25)均用来转换液流；

所述激光传感器(29)分别在第三管路(7)、第五管路(21)的管道外侧和喷嘴(14)处安装，用于测量第三管路(7)和第五管路(21)和喷嘴(14)的内径。

2.根据权利要求1所述的自清洗式纳米胶体射流抛光装置，其特征在于，还包括计算机控制系统(30)，所述计算机控制系统(30)分别与第一轴向导轨(12)、第二轴向导轨(19)、第三轴向导轨(33)、抬升装置(28)、激光传感器(29)和阀门控制装置(31)相连，用于控制第一轴向导轨(12)、第二轴向导轨(19)、第三轴向导轨(33)、抬升装置(28)和阀门控制装置(31)的运动以及对激光传感器(29)收集的数据进行统计分析，从而实现自动控制和数据分析。

3.根据权利要求1所述的自清洗式纳米胶体射流抛光装置，其特征在于：所述纳米胶体容器(1)为超声清洗仪，或者为与振动子相连的封闭容器。