[发明专利]一种太阳光敏感型除草剂纳米囊及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种太阳光敏感型除草剂纳米囊，其特征在于，其包括：

纳米囊，由葫芦脲、甲基紫晶、4-己氧基偶氮苯自组装形成；以及

除草剂，负载在所述纳米囊中，

其中4-己氧基偶氮苯具有以下化学式：

其中x为3；

所述葫芦脲、所述甲基紫晶和所述4-己氧基偶氮苯的摩尔比例为1～2：1～2：1～2；

所述除草剂选自百草枯、敌草快、甲草胺、乙草胺、草铵膦和草甘膦中的任意一种；以及

所述除草剂在所述除草剂纳米囊中的重量浓度为大于0且≤5％。

2.根据权利要求1所述的太阳光敏感型除草剂纳米囊，其特征在于，所述葫芦脲选自葫芦脲[8-10]。

3.根据权利要求1所述的太阳光敏感型除草剂纳米囊，其特征在于，所述葫芦脲是葫芦脲[8]。

4.一种如权利要求1-3中任一项所述的太阳光敏感型除草剂纳米囊的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：

将葫芦脲、甲基紫晶和除草剂溶解于水中；

加入4-己氧基偶氮苯的有机溶剂溶液，并搅拌，形成光敏感型两亲性复合物，在自组装形成纳米囊过程中，同时实现对所述除草剂的负载；

在水中透析除去有机溶剂。

5.根据权利要求4所述的太阳光敏感型除草剂纳米囊的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂选自乙醇、丙酮、N，N-二甲基甲酰胺和二甲基亚砜中的至少一种。

6.根据权利要求4所述的太阳光敏感型除草剂纳米囊的制备方法，其特征在于，所述搅拌的时间≥0.5小时。

7.根据权利要求4所述的太阳光敏感型除草剂纳米囊的制备方法，其特征在于，将透析后的溶液经过孔径为0.4～0.5μm的微孔滤膜过滤后，冻干形成粉末状的产品。

8.一种如权利要求1-3中任一项所述的太阳光敏感型除草剂纳米囊的应用，其特征在于，将所述除草剂纳米囊施加于植物表面，并经太阳光照射。