[发明专利]一种石墨烯/WO3/Ag复合光催化薄膜的制备在审

专利信息
申请号: 201810630159.X 申请日: 2018-06-19
公开(公告)号: CN108786807A 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 李韶杰;杨鑫泽 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: B01J23/68 分类号: B01J23/68;B01J20/20;B01J20/30
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 王晶
地址: 710021 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 石墨烯 复合光催化薄膜 石墨烯薄膜 旋涂 纳米粉体 铜箔 制备 聚甲基丙烯酸甲酯溶液 蒸馏水 亚甲基双丙烯酰胺 阴极 前驱体溶胶 阳极 薄膜表面 表面放置 表面喷涂 沉淀电极 聚丙烯酸 偏钨酸铵 无水乙醇 研磨 烘干箱 石英管 异丁醇 粘结剂 烘干 丙酮 粉体 附着 薄膜 喷洒 回收
【说明书】:

一种石墨烯/WO3/Ag复合光催化薄膜的制备,将铜箔放进石英管中使铜箔上产生一层石墨烯薄膜;将聚甲基丙烯酸甲酯溶液旋涂在石墨烯薄膜表面放置于FeCl3溶液中,旋涂PMMA后再置于丙酮中,最终得到石墨烯薄膜;将偏钨酸铵加入到适量蒸馏水中得到溶液A,向溶液A中加入聚丙烯酸、亚甲基双丙烯酰胺,将得到的前驱体溶胶A置于烘干箱中烘干研磨,得到WO3纳米粉体;将WO3纳米粉体加入到异丁醇中得到溶胶B,将得到溶胶B旋涂到附着有石墨烯的ITO导电玻璃上。在附有石墨烯/WO3薄膜的ITO导电玻璃表面喷涂粘结剂,然后将其作为阳极沉淀电极,Ag靶作为阴极。在得到薄膜表面喷洒无水乙醇,得到石墨烯/WO3/Ag复合光催化薄膜,本发明不需要对粉体进行分离、回收操作,使用更加方便。

技术领域

本发明涉及纳米材料制备以及多组分功能薄膜制备技术领域,特别涉及一种石墨烯/WO3/Ag复合光催化薄膜的制备。

背景技术

随着经济的不断发展,人类社会对能源的需求量越来越大。目前,虽然人类在新能源开发领域已经取得了一定的进展,但就总体而言,还未能实现大规模推广,这一局限就迫使我们必须加大对石油、煤炭等不可再生能源的开采利用。这些传统能源很好的维持了社会的日常运转,使其在使用过程中产生的废水、废气、废渣等有害物质造成了严重的环境污染,因此环境污染物的治理在当今社会尤为重要。

目前环境污染处理办法主要有化学法、生物降解法、光催化法。化学法是向污染物中投入化学药剂,通过中和、氧化还原等化学反应消除污染。这种方式简单、便于回收,但存在造成二次污染以及高成本等问题,所以需要慎用。生物降解法绿色环保,但是处理范围有限,对污染物的生化降解能力有一定要求,所以其应用性还有待提高。

光催化法,是一种直接利用太阳光降解有机污染物的方法,其成本较低、无二次污染、能耗低且易于操作,具有广阔的应用前景。

WO3是一种禁带能小于3.0eV的半导体光催化材料,相较于传统的TiO2、ZnO等只能由紫外线激发进行光催化反应的材料,WO3能够利用可见光进行反应,因此更具有发展潜力。但是它也存在一些问题,首先半导体材料的光子电子—空穴复合效率较高,不利于光催化反应的进行;其次单一的WO3电子传输能力有限,并且对有机污染物吸附能力较弱,无法有效提高降解速率;另外,现有的WO3以粉体形态居多,在使用后需要进行回收处理,较为不便。

因此,若将WO3、石墨烯与金属Ag进行复合处理,制备成一种新型的多组分复合光催化薄膜,可以有效降低光子电子—空穴的复合效率,提高光催化活性,加快有机污染物降解,简化后续处理过程。

发明内容

为了克服上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种石墨烯/WO3/Ag复合光催化薄膜的制备方法,其具有更高的太阳光利用率、电子传输效率、吸附能力以及光催化活性。同时,与单纯的光催化粉体材料不同,本发明是一种薄膜材料,不需要对粉体进行分离、回收操作,使用更加方便。

为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是:

一种石墨烯/WO3/Ag复合光催化薄膜的制备,其特征在于,包括以下步骤:

步骤一,石墨烯薄膜的制备:

将厚25μm的铜箔放进石英管中,抽真空,通入氢气5分钟将空气排净,然后加热到1000℃,保持氢气流速为2~6sccm,使气压恒定在40mTorr,保持一段时间;

待温度和压力稳定后,通入35~40sccm甲烷,总压强为500mTorr,保持一段时间;

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