[发明专利]一种均匀有序的铂立方体或多面体纳米颗粒阵列的制备方法

权利要求书

1.一种均匀有序的铂立方体纳米颗粒或铂多面体纳米颗粒阵列的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

（1）以旋涂方式将分散有双嵌段共聚物的有机溶液均匀铺展至载体表面，获得负载有双嵌段共聚物自组装的有序球形胶团阵列的载体，然后放入等离子清洗机中进行等离子刻蚀，将阵列中每个球形胶团均匀刻蚀至敞口，直至在载体上获得有序孔洞式阵列模板，得到负载有有序孔洞式阵列模板的载体；双嵌段共聚物为聚苯乙烯-嵌段-聚乙烯基吡啶；

（2）在步骤（1）得到的负载有有序孔洞式阵列模板的载体的表面均匀旋涂含有盐酸封端剂的氯铂酸铂前驱体水溶液，填充模板孔洞，得到表面载有填充有盐酸/氯铂酸的有序孔洞式阵列模板的载体；

（3）将步骤（2）得到的表面载有填充有盐酸/氯铂酸的有序孔洞式阵列模板的载体放入等离子清洗机中通过等离子清洗还原至有机物完全去除，获得均匀有序的铂立方体纳米颗粒或铂多面体纳米颗粒阵列。

2.根据权利要求1所述的均匀有序的铂立方体纳米颗粒或铂多面体纳米颗粒阵列的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述的旋涂方式具体为：在载体表面滴上含有双嵌段共聚物的有机溶液，于旋涂匀胶机上以2000~6000 rpm的速度旋涂1 min以上，静置，得到负载有单层的有序球形胶团阵列模板的载体。

3.根据权利要求1或2所述的均匀有序的铂立方体纳米颗粒或铂多面体纳米颗粒阵列的制备方法，其特征在于，步骤（1）中有机溶液的溶剂使双嵌段共聚物自组装成结构为聚苯乙烯壳/聚乙烯基吡啶核的球形胶团；步骤（1）中孔洞式阵列模板为各球形胶团颗粒顶部敞口的均匀有序阵列；所述的载体选自金属、合金、碳、半导体和导电玻璃中的一种。

4. 根据权利要求1或2所述的均匀有序的铂立方体纳米颗粒或铂多面体纳米颗粒阵列的制备方法，其特征在于，步骤（1）中对负载有双嵌段共聚物自组装的有序球形胶团阵列的载体通过等离子刻蚀进行处理，方法为：将负载有双嵌段共聚物自组装的有序球形胶团阵列的载体静置24 h以上，然后放入空气等离子清洗机中，在真空环境下以空气等离子体轰击胶团阵列150 s以内，阵列中每个球形胶团均匀刻蚀至敞口，载体上得到单层的孔洞式阵列模板。

5.根据权利要求1或2所述的均匀有序的铂立方体纳米颗粒或铂多面体纳米颗粒阵列的制备方法，其特征在于，通过控制含有盐酸封端剂的氯铂酸铂前驱体水溶液中盐酸与氯铂酸质量比来实现对均匀有序铂纳米颗粒阵列颗粒形状的控制。

6. 根据权利要求5所述的均匀有序的铂立方体纳米颗粒或铂多面体纳米颗粒阵列的制备方法，其特征在于，当盐酸与氯铂酸在水溶液中的质量比位于0.2 ~ 0.3区间，则所述均匀有序的铂纳米颗粒阵列的颗粒形状为立方体；当盐酸与氯铂酸的质量比小于0.2且大于0时，则所述均匀有序的铂纳米颗粒阵列的颗粒形状为介于半球形与立方体之间的多面体；当盐酸与氯铂酸的质量比为0，则所述均匀有序铂纳米颗粒阵列颗粒形状为半球形。