[发明专利]一种反应釜机构

说明书

本发明公开了一种反应釜机构，搅拌电机固定连接在釜体上，且搅拌电机的输出轴与搅拌轴固定连接，在釜体的顶端设有进料口，底端设有出料口，安装块通过轴承转动连接在釜体的底部，驱动管垂直固定于安装块上，搅拌轴的底端插接在驱动管内，且搅拌轴与驱动管之间相啮合；搅拌叶固定于搅拌轴上，若干根搅拌杆分层固定于驱动管的外壁上，若干扰流块沿着釜体圆周方向固定于釜体的内壁上，且扰流块位于搅拌杆的外侧。搅拌轴对釜体内的固体反应物和反应溶液进行搅拌，搅拌过程中，扰流块扰流，避免溶液形成涡流，即使有小的涡流存在，搅拌杆也可以打散集中在反应釜底部的固体反应物。

技术领域：

本发明涉及一种反应釜机构。

背景技术：

反应釜内的搅拌轴在搅拌固体反应物和反应溶液过程中会出现涡流现象，没来得及反应的固体反应物会集中在反应釜底部，涡流中心的反应溶液较少，因此会延长反应时间，降低效率。

发明内容：

本发明是为了解决上述现有技术存在的问题而提供一种反应釜机构。

本发明所采用的技术方案有：一种反应釜机构，包括釜体、搅拌电机和搅拌轴，所述搅拌电机固定连接在釜体上，且搅拌电机的输出轴与搅拌轴固定连接，在釜体的顶端设有进料口，底端设有出料口，还包括安装块、驱动管、搅拌叶、搅拌杆和扰流块，所述安装块通过轴承转动连接在釜体的底部，驱动管垂直固定于安装块上，搅拌轴的底端插接在驱动管内，且搅拌轴与驱动管之间相啮合；搅拌叶固定于搅拌轴上，若干根搅拌杆分层固定于驱动管的外壁上，若干扰流块沿着釜体圆周方向固定于釜体的内壁上，且扰流块位于搅拌杆的外侧。

进一步地，所述搅拌杆向下倾斜设置。

进一步地，所述驱动管的内壁上设有定位槽，在搅拌轴的外壁上设有与所述定位槽相适配的定位筋。

进一步地，所述搅拌轴的外壁上设有限位凸台，该限位凸台位于定位筋的上方。

本发明具有如下有益效果：搅拌轴对釜体内的固体反应物和反应溶液进行搅拌，搅拌过程中，扰流块扰流，避免溶液形成涡流，即使有小的涡流存在，搅拌杆也可以打散集中在反应釜底部的固体反应物。

附图说明：

图1为本发明结构图。

图2为本发明中驱动管的俯视图。

具体实施方式：

下面结合附图对本发明作进一步的说明。

如图1和图2，本发明一种反应釜机构，包括釜体1、搅拌电机3、搅拌轴4、安装块5、驱动管6、搅拌叶7、搅拌杆8和扰流块9，在釜体1的顶端设有进料口，底端设有出料口，安装块5通过轴承转动连接在釜体1的底部，驱动管6垂直固定于安装块5的中心处，搅拌电机3固定连接在釜体上，且搅拌电机3的输出轴与搅拌轴4固定连接，搅拌轴4的底端插接在驱动管6内，且搅拌轴4与驱动管6之间相啮合。搅拌叶7固定于搅拌轴4上，若干根搅拌杆8分层固定于驱动管6的外壁上，若干扰流块9沿着釜体1圆周方向固定于釜体1的内壁上，且扰流块9位于搅拌杆8的外侧。

本发明中的搅拌杆8向下倾斜设置。搅拌杆8可以打散集中在反应釜底部的固体反应物。

在驱动管6的内壁上设有定位槽61，在搅拌轴4的外壁上设有与所述定位槽61相适配的定位筋。

为便于对搅拌轴4安装位置进行限制，在搅拌轴4的外壁上设有限位凸台42，该限位凸台42位于定位筋的上方。

在安装搅拌轴4过程中，当限位凸台42抵触在驱动管6上时，则表示搅拌轴4安装到位。

在使用时，搅拌轴4对釜体1内的固体反应物和反应溶液进行搅拌，搅拌过程中，扰流块9扰流，避免溶液形成涡流，即使有小的涡流存在，搅拌杆8也可以打散集中在反应釜底部的固体反应物。搅拌杆8向下倾斜设置，可以增加搅拌范围。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下还可以作出若干改进，这些改进也应视为本发明的保护范围。