[发明专利]一种模内纳米纹理转印注塑模具及其方法

说明书

本发明公开了一种模内纳米纹理转印注塑模具及其方法，包括：包括：上模，通过导柱与上模连接的下模；所述上模包括上模座板，设置在上模座板下表面的上加热板，设置在上加热板下表面的上凸模；所述下模包括下模座板，分别设置在下模座板上表面左侧、右侧的左型腔固定板、右型腔固定板，所述左型腔固定板与右型腔固定板之间设置有推板，所述推板左侧、右侧分别设置有左推杆、右推杆，所述左型腔固定板上方设置有下加热板，所述下加热板上表面设置有下凸模，所述下凸模中部设置有型芯，所述下凸模左侧、右侧分别设置有左支撑板、右支撑板。本发明的模内纳米纹理转印注塑模具能够将纳米纹理图案转印到塑胶产品和玻璃制品上，有效的降低了转印成本。

技术领域

本发明涉及纳米纹理转印技术领域，尤其涉及的是一种模内纳米纹理转印注塑模具及其方法。

背景技术

目前，手机、平板电脑、汽车、机器人和数码产品得到了广泛的运用，此类产品的外壳通常情况下都是免喷涂的产品，这样使得生产成本低。要想将纹理图案设置在产品，基本上都是在模具上模芯或者下模芯上蚀刻晒纹技术来实现产品外观的多样性，或者使用激光光刻技术在产品模具的上模或者下模上蚀刻的方式来实现表面装饰效果，但是无论是传统的蚀刻晒纹技术还是激光光刻技术，都受限于目前的蚀刻及激光技术局限性，在模具上蚀刻的纹理其线条的线宽只能实现≧0.01mm，导致﹤0.01mm线宽的纳米微观图案无法实现，只能通过其它高成本的方式去实现。

因此，现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种模内纳米纹理转印注塑模具及其方法，旨在解决现有技术中纳米微观图案转印成本高的问题。

本发明的技术方案如下：

一种模内纳米纹理转印注塑模具，其中，所述模内纳米纹理转印注塑模具包括：

上模，以及通过导柱与所述上模连接的下模；

所述上模包括：上模座板，设置在所述上模座板下表面的上加热板，以及设置在所述上加热板下表面中部的上凸模；

所述下模包括：下模座板，分别设置在所述下模座板上表面左侧、右侧的左型腔固定板、右型腔固定板，所述左型腔固定板与右型腔固定板之间设置有一推板，所述推板左侧、右侧分别设置有一左推杆、右推杆，所述左型腔固定板和右型腔固定板上方设置有一下加热板，所述下加热板上表面设置有一下凸模，所述下凸模中部设置有一型芯，所述下凸模左侧、右侧分别设置有左支撑板、右支撑板，所述左支撑板上表面设置有一承压板；

所述右支撑板中部设置有一导套，所述导柱与导套相适配。

优选地，所述的模内纳米纹理转印注塑模具，其中，所述下加热板右侧设置有一右通孔，所述右推杆在右通孔内向上移动将成品推出。

优选地，所述的模内纳米纹理转印注塑模具，其中，所述上模座板与上加热板、上加热板与上凸模之间皆通过螺钉固定。

优选地，所述的模内纳米纹理转印注塑模具，其中，所述推板上表面设置有一推杆固定板，所述推杆固定板和推板贯穿设置有一左通孔。

优选地，所述的模内纳米纹理转印注塑模具，其中，所述推板中部向下延伸设置有一拉杆，所述下模座板中部设置有一用于拉杆上下移动的中通孔。

一种模内纳米纹理转印方法，其中，所述模内纳米纹理转印方法包括步骤如下：

A、首先制造纳米纹理母模；

B、通过UV转印机将母模上的纳米纹理图案转印到薄膜片上；

C、通过热弯成型机或冲切机，将转印好的纳米纹理图案的薄膜片成型或冲切成待转印产品的形状；

D、将成型或冲切好的薄膜片具有纳米纹理图案的一面贴放在注塑模具的上模或下模上；