[发明专利]一种负性光刻胶显影液

说明书

本发明公开了一种负性光刻胶显影液，其由以下组分按照重量百分比组成：KOH3％‑5％；无机盐5％‑10％；表面活性剂10％‑20％；水65％‑82％，其中，无机盐采用硅酸钠、碳酸钠、偏硅酸钠、磷酸三钠中的一种或者多种。本发明配制的负性光刻胶显影液，其显示范围宽，可操作窗口大，且显影效果良好，并且显影精度高。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其是涉及一种负性光刻胶显影液。

背景技术

光刻胶是指通过紫外线/准分子激光/电子束/离子束等光源的照射或者辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。显影就是去除已曝光光刻胶的工艺过程，为了避免光刻胶因其他可能的副反应而改变其化学结构，曝光后应尽快进行显影，因此，通常使用显影液对光刻胶进行显影处理。

光刻胶显影液分为正性光刻胶显影液以及负性光刻胶显影液，而一般用于液晶显示单元等彩色滤光片都是利用负性光刻胶显影液制造的，而随着显示技术的日益进步，伴随着对分辨率以及成像清晰度等要求持续提高，所采用的负性光刻胶显影液也在不断地改进，本发明也对传统的负性光刻胶显影液进行改进，提出本专利申请。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的是提供一种负性光刻胶显影液。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：一种负性光刻胶显影液，其由以下组分按照重量百分比组成：KOH3％-5％；无机盐5％-10％；表面活性剂10％-20％；水65％-82％。

在此处，KOH作为碱性溶剂运用于显影液中，KOH的浓度能够决定显影液中的碱性基团含量，进而调节显影的速度，并且KOH作为碱性溶液，比采用酸性溶液运用于显影液中，其后续的废液处理问题也能得到很好的解决，并且KOH在本发明中的唯一的，不可代替。

进一步的技术方案中，所述的无机盐为：硅酸钠、碳酸钠、偏硅酸钠、磷酸三钠中的一种或者多种，其中，无机盐加入显影液中，是起到中和作用，随着显影液中的碱性基团逐渐被中和，释放出碱性基团，降低了显影液显影效力减弱的速度，起到了碱性基团的缓释效果，从而延缓了生产中显影时间的调整，提高了产品的质量和稳定性。

进一步的技术方案中，所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)，加入表面活性剂能够达到更好的显影效果，通过选择表面活性剂来进行坡度控制，调节显影线宽。

进一步的技术方案中，所述的脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO)为：高碳脂肪醇聚氧乙烯醚。

采用上述结构后，本发明和现有技术相比所具有的优点是：

1、本发明配制的负性光刻胶显影液，其显示范围宽，可操作窗口大，且显影效果良好。

2、本发明配制的负性光刻胶显影液显影效果好，显影精度高。

具体实施方式

以下仅为本发明的较佳实施例，并不因此而限定本发明的保护范围。

实施例一：

负性光刻胶显影液，取以下组分按照重量百分比组成：

实施例二：

负性光刻胶显影液，取以下组分按照重量百分比组成：

实施例三：

负性光刻胶显影液，取以下组分按照重量百分比组成：

实施例四：

负性光刻胶显影液，取以下组分按照重量百分比组成：

实施例五：