[发明专利]聚合抑制系统和聚合抑制方法

权利要求书

1.一种聚合抑制系统，包括：

测量装置，其被配置为在由原料制造产品的制造工艺中连续地测量低聚物的浓度，所述低聚物包含在含有单体作为主要成分的原料以及来自所述原料的中间产物中的至少一者之中；

供应装置，其被配置为在所述制造工艺中供应聚合抑制剂；和

控制装置，其被配置为基于由所述测量装置测得的测量结果来控制由所述供应装置供应的所述聚合抑制剂的供应量。

2.根据权利要求1所述的聚合抑制系统，

其中所述控制装置被配置为存储所述聚合抑制剂的供应量与所述低聚物的浓度之间的关系，并且

其中所述控制装置被配置为通过至少使用所述测量结果和所述关系来控制所述聚合抑制剂的供应量。

3.根据权利要求2所述的聚合抑制系统，

其中所述控制装置被配置为存储在所述制造工艺中获得的对于不同工艺参数的各工艺参数组的所述供应量与所述浓度之间的相应关系，并且

其中所述控制装置被配置为通过使用所述测量结果、不同工艺参数的各工艺参数组以及对于各工艺参数组的相应关系来控制所述聚合抑制剂的供应量，以将所述低聚物的浓度调节至预定浓度。

4.根据权利要求3所述的聚合抑制系统，

其中所述控制装置被配置为通过使用所述测量结果、各工艺参数组以及对于各工艺参数组的相应关系来控制所述聚合抑制剂的供应量和所述工艺参数。

5.根据权利要求3所述的聚合抑制系统，

其中所述控制装置被配置为通过使用所述测量结果中的最新测量结果、最新工艺参数的各工艺参数组以及对于各工艺参数组的最新相应关系，从而连续控制所述聚合抑制剂的供应量，以连续调节所述低聚物的浓度至所述预定浓度。

6.根据权利要求1所述的聚合抑制系统，其中所述测量装置包括在线气相色谱仪以及傅立叶变换红外光谱仪中的至少一种。

7.一种聚合抑制方法，包括：

在由原料制造产品的制造工艺中连续地测量低聚物的浓度，所述低聚物包含在含有单体作为主要成分的原料以及来自所述原料的中间产物中的至少一者之中；

在所述制造工艺中供应聚合抑制剂；以及

基于所述低聚物的浓度测量的测量结果来控制所述聚合抑制剂的供应量。

8.根据权利要求7所述的聚合抑制方法，其中控制所述聚合抑制剂的供应量包括：通过至少使用所述低聚物的浓度测量的所述测量结果和所述聚合抑制剂的供应量与所述低聚物的浓度之间的关系来控制所述聚合抑制剂的供应量。

9.根据权利要求8所述的聚合抑制方法，其中控制所述聚合抑制剂的供应量包括：通过使用所述低聚物的浓度测量的所述测量结果、不同工艺参数的各工艺参数组、以及在所述制造工艺中获得的对于不同工艺参数的各工艺参数组的所述供应量与所述浓度之间的相应关系，从而控制所述聚合抑制剂的供应量。

10.根据权利要求9所述的聚合抑制方法，

其中控制所述聚合抑制剂的供应量包括：通过使用所述测量结果、各工艺参数组以及对于各工艺参数组的相应关系来控制所述聚合抑制剂的供应量和所述工艺参数。

11.根据权利要求9所述的聚合抑制方法，

其中控制所述聚合抑制剂的供应量包括：通过使用所述测量结果中的最新测量结果、最新工艺参数的各工艺参数组以及对于各工艺参数组的最新相应关系，从而连续控制所述聚合抑制剂的供应量，以连续调节所述低聚物的浓度至所述预定浓度。

12.根据权利要求7所述的聚合抑制方法，其中通过在线气相色谱仪以及傅立叶变换红外光谱中的至少一种连续测量所述低聚物的浓度。