[发明专利]一种除去硫酸废液中双氧水的处理装置及其处理方法

说明书

本发明涉及一种除去硫酸废液中双氧水的处理装置，包括原料存储罐所述的原料存储罐通过管道连接，触媒反应釜的顶部设置有排气口，排气口与吸收装置连接，输送泵连接成品储存罐，一种除去硫酸废液中双氧水的方法，步骤1，包括将废液泵入原料存储罐中，料泵将原料存储罐中的废液泵入触媒反应釜中，触媒反应将双氧水分解为水和氧气；步骤2，通过输送泵将触媒反应釜内的料液打循环降温，同时换热器器通入冷却水给换热器进行循环换热降温；步骤3，在反应时会产生气体，溢出的气体经过吸收装置进行吸收回收利用；步骤4，反应完成后将液体冷却到常温，冷却后的料液通过输送泵泵入成品存储罐中得到稀硫酸。本发明的优点是将硫酸废液中的双氧水分解掉，回收利用得到的稀硫酸溶液。

技术领域

本发明涉及废酸回收处理工艺领域，特别是一种除去硫酸废液中双氧水的处理装置及其处理方法。

背景技术

随着半导体器件的尺寸越来越小，集成程度更高，半导体器件中的微量杂质对半导体器件的影响更大。因此，半导体清洗工艺产生的SPM废酸中含40~85%的硫酸和3~10%的过氧化氢，过氧化氢的残余对于运输安全存储和回收再利用于其他生产工艺不利。目前业界采用的是在废酸中直接加入金属离子催化剂，引用了金属杂质，且不能去除，导致不能回收进行商品化再利用。如将废酸中的硫酸回收再商品化利用，必须将过氧化氢的浓度控制到2ppm以下，并且不带入其他杂质。常规的金属催化剂催化分解过氧化氢，容易引入杂质，而且，要降到2ppm以下耗时非常长，成本控制上不理想。直接使用常规的光催化分解过氧化氢，也需要耗时巨大，且很难达到半导体清洗工艺对杂质控制的要求。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种除去硫酸废液中双氧水的处理装置及其处理方法。

本发明的目的通过以下技术方案来实现：一种除去硫酸废液中双氧水的处理装置，包括原料存储罐，所述的原料存储罐通过管道连接触媒反应釜，触媒反应釜的顶部设置有排气口，排气口与吸收装置连接，触媒反应釜内设置有换热器，触媒反应釜的底部连接输送泵，输送泵连接成品储存罐。

具体地，所述的输送泵设置有两个出口，输送泵的一个出口通过阀门A连接成品存储罐，另一个出口通过阀门B连接换热器。

具体地，所述的原料存储罐与触媒反应釜之间的管道上设置有料泵和备用料泵，料泵和备用料泵并联设置。

具体地，所述的原料存储罐和成品存储罐均设置有两个。

一种除去硫酸废液中双氧水的方法，包括以下处理步骤：

步骤1，包括将废液泵入原料存储罐中，料泵将原料存储罐中的废液泵入触媒反应釜中与触媒反应釜内的触媒进行反应，触媒反应将双氧水分解为水和氧气；

步骤2，在反应过程中会不断产生热量，关闭阀门A并打开阀门B，通过输送泵将触媒反应釜内的料液打循环降温，同时换热器通入冷却水给换热器进行循环换热降温；

步骤3，在反应时会产生气体，产生的气体从反应釜的顶部溢出，溢出的气体经过吸收装置进行吸收回收利用；

步骤4，检测废液中的双氧水含量低于2ppm以下即为反应完成，反应完成后将液体冷却到常温，关闭阀门B，打开阀门A，冷却后的料液通过输送泵泵入成品存储罐中得到稀硫酸，关闭。

具体地，所述步骤2降温时根据触媒反应釜内的料液温度来控制循环的量和循环的时间，将料液的温度控制在85℃以下。

本发明的有益效果如下：本发明将硫酸废液泵入触媒反应釜与反应釜中的触媒进行反应，将双氧水分解为水和氧气，反应的同时冷凝器给换热器通入冷却水，对反应的温度进行控制，避免温度过高造成危险情况发生。

附图说明

图1 为本发明的结构示意图；

图2 为触媒反应釜的结构示意图；