[发明专利]一种高通透性涂装工艺

说明书

本发明涉及表面涂装技术领域，尤其是指一种高通透性涂装工艺，包括如下工艺步骤：步骤1：在工件表面进行PVD磁控离子溅射镀；步骤2：完成步骤1后对工件喷涂或印刷所需的颜色保护漆，喷涂或印刷所需的颜色保护漆后需进行遮光处理；步骤3：完成步骤2后根据产品形状要求进行热压成型或CNC加工处理，本发明工艺方法生产成本低，能达到玻璃的通透性、陶瓷表面外观质感、金属外观视觉效果且耐脏污防指纹，也能保证触摸时的陶瓷质感，对产品而言无论是购买前的视觉诱惑还是购买后的整体质感表现都提高了层次。

技术领域

本发明涉及表面涂装技术领域，尤其是指一种高通透性涂装工艺。

背景技术

随着社会的不断进步，科技的不断发展，人们的生活也随之品质不断上升，在日常生活中，便携式电子产品是人们出门的必需品之一，如平板电脑、手机等已逐渐成为了生活中的刚需品，这类电子产品的外壳为了提高其美观度，均需要具有一定的玻璃的通透性、陶瓷的质感以及金属效果，另一方面为了符合便携和使用性能，其不能直接使用玻璃或陶瓷作为外壳，因此，其需要在非玻璃、陶瓷壳体上进行具备玻璃通透性、陶瓷质感的涂装，目前市面上的壳体涂装一般都采用简单的涂装工艺，这种涂装工艺仅能实现对非透明件的涂装，且涂装工艺复杂，生产成本高，陶瓷质感不够突出，实用性较差。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种能达到玻璃通透性、陶瓷表面外观质感、具有一定的金属视觉效果且耐脏污防指纹的高通透性涂装工艺。

为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种高通透性涂装工艺，其特征在于：包括如下工艺步骤：

步骤1：在工件表面印刷或烫金所需的字体或图案；

步骤2：完成步骤1后进行PVD磁控离子溅射镀；

步骤3：完成步骤2后对产品喷涂或印刷所需的颜色保护漆；

步骤4：完成步骤3后根据产品形状要求进行热压成型或CNC加工处理。

优选的，所述步骤2中的PVD磁控离子溅射镀，需在磁控溅射设备中完成，该设备在工作前需进行腔体清理，清理时的设备参数如下，真空度为5×10^-4～7×10^-4Torr，靶材电流为2～3A，清理时间为300～500s。

优选的，所述步骤2中的PVD磁控离子溅射镀，使用单一金属靶材，该金属靶材为镁靶、铬靶或锌靶。

优选的，所述步骤2中的PVD磁控离子溅射镀，需在磁控溅射设备中完成，该设备工作时的参数如下，真空度为0.8×10^-5～1.6×10^-5Torr，偏压值为120～138V，靶材的电流为8～12A。

优选的，所述步骤2中的PVD磁控离子溅射镀，使工件表面沉积一层镀膜，沉积时间为4～6H，待沉积完成后需等磁控溅射设备腔体冷却至30～45℃后打开腔体取出产品。

优选的，所述步骤3喷涂或印刷所需的颜色保护漆后需进行遮光处理。

一种高通透性涂装工艺，其特征在于：包括如下工艺步骤：

步骤1：在工件表面进行PVD磁控离子溅射镀；

步骤2：在步骤1的镀层上做CD纹或拉丝纹；

步骤3：完成步骤2后喷涂或印刷所需的颜色保护漆；

步骤4：在步骤3的保护漆上镭雕所需的字体或图案；

步骤5：对步骤3镭雕的字体或图案进行印刷、烫金或贴金属膜来增强金属质感；

步骤6：完成步骤5后根据产品的形状要求进行热压成型或CNC加工处理。