[发明专利]大尺度范围的水平位移变化测量方法在审
| 申请号： | 201810301851.8 | 申请日： | 2018-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN109238143A | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 魏国平 | 申请（专利权）人： | 上海市政工程设计研究总院（集团）有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 上海世圆知识产权代理有限公司 31320 | 代理人： | 陈颖洁 |
| 地址： | 200092 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光面 位置传感器 变化测量 光斑位置 水平位移 测量 大尺度 待测点 垂直 测量精度高 光斑 被测物体 参考基准 测量激光 待测物体 方向垂直 方向设置 人工位移 位移监测 传感器 出错 自动化 | ||
【权利要求书】：
1.一种大尺度范围的水平位移变化测量方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：A、设置一个激光面，使得激光面垂直于位移方向，在待测物体产生一条与位移方向垂直的光斑；B、在被测物体的各个待测点和参考基准点分别安装位置传感器，所述位置传感器沿位移方向设置并经过光斑位置； C、通过测量激光面在位置传感器上的光斑位置的变化，测量待测点在垂直于激光面方向上的位移。
2.如权利要求1所述的一种大尺度范围的水平位移变化测量方法，其特征在于，采用激光面作为测量基准面或激光面的投影线作为基准线，以测量待测点的水平位移变化。
3.如权利要求1所述的一种大尺度范围的水平位移变化测量方法，其特征在于，在被测物体之外分别设定若干个稳定位置作为基准点，在该基准点安装位置传感器，且所述位置传感器也垂直于激光面设置，根据基准点测得的数据对待测点测得数据进行修正。
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